中古 KLA / TENCOR 2132 #293798142 を販売中

KLA/TENCOR 2132マスク&ウェーハ検査装置は、半導体製造に採用されている完全自動検査ソリューションです。フォトマスクやウェーハにおいて、地形や反射率のばらつきと定義される欠陥を検出するために、高解像度のデジタルイメージングシステムを使用しています。エアーベアリングステージは、表面トポロジーとエッジコントラストの明確なコントラストを提供し、高度な欠陥分類を容易にするために、高度なブライトフィールドおよびダークフィールド光学系にサンプルを輸送します。KLA 2132は、最大12インチのフォトマスク、および200ミリメートルから450ミリメートルの半導体ウェーハに対応する機能を備えています。さまざまなステージ構成が用意されており、少量生産または大量生産のいずれかに検査ユニットを構成することができます。TENCOR 2132は、スキャン角度から露出とレイヤーの数まで、高度な会計機能と組み合わせて、詳細なデータ分析、欠陥トレンド分析、およびその他のレポート機能を提供します。さまざまな分析モード選択を可能にする使いやすい画面上のユーザーインターフェイス。検査スイートにはウェーハアライメントと画像解析ソフトウェアも含まれており、このスイートは業界最新の互換性のある検査要件とコンピュータインターフェイスの両方と完全に互換性があります。2132マスク&ウェーハ検査機は、半導体製造施設のトレーサブルで信頼性の高い環境で高度な目視検査とスライド解析機能を利用して、さまざまなサイズと厚さの基板に理想的なツールです。ブライトフィールドとダークフィールドシステムは、地形特性と光学コントラストの欠陥を区別することができます。統合されたソフトウェアスイートにより、効率的なデータ分析、欠陥追跡、レポート作成が可能です。そして空気軸受け段階はより大きいサンプル正確さおよび操作を可能にします。これらの機能により、KLA/TENCOR 2132 Mask&Wafer Inspection Assetは、高速かつ効率的な半導体製造のための最先端のツールとなります。