中古 KLA / TENCOR 2131E #9181395 を販売中

KLA/TENCOR 2131E Mask&Wafer Inspection Equipmentは、バックエンド半導体集積回路製造のための信頼性の高い堅牢なウェーハ処理および光検査システムです。徹底した包括的なウエハ検査とマスク検査を行うことで、その性能と精度で有名です。KLA 2131Eは、ウェーハを迅速かつ正確に移動および処理する自動ウェーハハンドリングユニットを備えています。これを実現するには、光パターンを解析し、各ウェハとそれに関連するマスクアライメントマーク（MAM）の高速測定を行う高度なアルゴリズムを採用しています。また、重要寸法（CD）オーバーレイ、クリアフィールド、IPC-9151など、ウェーハとマスクの両方で誤差を正確に測定できます。TENCOR 2131 Eは、ウェーハやマスクの画像を取得するために使用される3つのCCDカメラを含む高度な光学ツールを持っています。これらのカメラは、高いダイナミックレンジを持っており、ナノメートルレベルの詳細に敏感です。KLA/TENCOR 2131 Eは、デバイスのさらなる精度を提供するために、光ターゲティングシステムとレーザーモジュールを使用して、正確なウェハ登録を実行します。KLA 2131 Eには、リアルタイムで欠陥を検出する高性能の画像解析アセットも含まれています。このモデルは、µmサイズまでの欠陥を検出することができ、重要な寸法の小さな変化を検出することもできます。その分析の精度を確保するために、装置は、正確なオーバーレイ測定のための統合されたプロービングシステムとプロジェクターを持っています。2131Eにはユーザーフレンドリーなデザインがあり、すべてのコンポーネントとプロセスを自動化して最大限の利便性と効率を実現しています。さらに、このデバイスは、フラットパネルやボウティ形状など、さまざまなウエハータイプを読み取ることができ、信頼性の高い包括的な保証プランで補完されています。結論として、TENCOR 2131Eは、バックエンド半導体集積回路製造のために設計された信頼性の高い正確なマスク&ウェーハ検査ユニットです。自動化されたウェーハハンドリングマシンと先進的な光学および画像解析システムにより、検査ごとに精度、精度、利便性が向上します。