中古 KLA / TENCOR 2131 #9404524 を販売中

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ID: 9404524
ヴィンテージ: 1994
Wafer inspection system 1994 vintage.
KLA/TENCOR 2131は、半導体製造プロセス向けに設計された自動マスクおよびウェハ検査装置です。光学およびダイツメトロロジーアプリケーションに使用できます。このシステムは、2つのワークステーション、1つはアライメント用、もう1つは最終検査用に使用されます。アライメントワークステーションには、2つのアライメントモジュール、セルフアライメントモジュール、および自動アライメントモジュールがあります。セルフアライメントモジュールは、高度な画像解析技術を使用して、必要なパターンにウェーハをセルフアライメントします。自動アライメントモジュールは、プログラムされたマスクを使用してウェーハを識別して整列させます。最終検査ワークステーションには、パターン欠陥と欠陥欠陥の両方を測定する複数のセンサーが装備されています。これらのセンサには、光学顕微鏡アレイ、X線、電子顕微鏡、およびCMOSセンサーが含まれます。このユニットには、複数の欠陥を同時に測定できる単一の欠陥分類モジュールもあります。検査速度が高く、1時間あたり最大10,000個のウェーハを搭載し、大量生産環境に適しています。さらに、80%以上の歩留まりを正確に検出することができ、幅広いプロセス条件で使用することができます。このツールは、測定結果を分析し、パスまたはフェイル結果を自動的に与えることができ、プロセスの迅速な再ツーリングを可能にします。さらに、直感的なユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスを備えており、簡単なセットアップと操作が可能です。KLA 2131は、高精度マスクおよびウェーハ検査に不可欠なツールです。高速、高精度、直感的なユーザーインターフェースにより、幅広いアプリケーションに適しています。TENCOR 2131は、小容量でも大規模生産でも、検査結果の最適化と歩留まりの向上に役立ちます。
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