中古 KLA / TENCOR 2131 #9158749 を販売中

KLA/TENCOR 2131マスク・ウエハ検査装置は、半導体製造におけるマスク・ウエハ検査において、高精度、高いレビュー能力、再現可能な結果を提供するよう設計されています。この自動検査システムは、1時間あたり最大7万枚のマスクとウェーハを見直すことができ、5インチのFOVコリメートレーザー光学系と1ピクセルあたり1ミクロンの解像度を持つCCDベースのイメージングユニットを使用しています。KLA 2131マスク&ウェーハ検査機は、0。2ミクロンという小さな欠陥の迅速かつ正確な検出と識別を可能にする強力な画像処理アルゴリズムを備えています。このツールには、リアルタイムアライメントやオートフォーカスなど、品質を保証するためのいくつかの組み込み機能も含まれています。また、欠陥、汚染、機器部品のマスクやウエハーを見直すことができる高性能ビジョンベースの欠陥検査モデルを搭載しています。TENCOR 2131マスク&ウェーハ検査システムは、複数のプラットフォーム、品質管理ツール、さまざまなタイプの機器を簡単に統合できるように設計されています。このユニットは、欠陥レビューコンピュータ、品質管理ツール、電気試験システムなど、さまざまな統合欠陥レビューおよび欠陥評価ツールと互換性があります。2131マシンは同時に複数のマスクとウェーハをサポートし、大規模なウェーハとマスクセットの迅速なレビューを可能にします。さらに、欠陥データの迅速かつ正確なレビューと解決を可能にするデータ管理資産を備えており、検査プロセスの効率が向上します。このモデルでは、プロセスモニターなどの複数の監視およびレポート機能も提供しており、マスク全体とウェーハ検査プロセスをリアルタイムで統合したビューを提供します。また、ハイレベル制御（HLC）ソフトウェアも搭載しており、さまざまな製造要件を満たすようにカスタマイズでき、最高レベルの欠陥レビュー精度を提供します。全体的に、KLA/TENCOR 2131システムは、マスクとウェーハを迅速かつ正確に検査し、再現可能な結果を提供し、さまざまな欠陥レビューおよび障害評価ツールと統合することができます。このユニットには、強力な画像処理アルゴリズム、データ管理マシン、および高い欠陥精度を保証する監視およびレポート機能の範囲があります。