中古 KLA / TENCOR 2131 #293815220 を販売中

KLA/TENCOR 2131は、最も要求の厳しい生産および大量スループット要件向けに設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。包括的なKLA 2131 Advanced Defect Inspection Systemは、業界をリードする半導体メーカーに、詳細なウェハやレチクル欠陥検出などの機能を強力に組み合わせて提供します。TENCOR 2131は、単一のユニットプラットフォーム内の生産、品質、プロセス制御の厳しい要件を満たすように設計されています。2131マシンには、マルチチャネル光学アーキテクチャ、高解像度スキャンステージ、高速画像取得が組み込まれています。この組み合わせにより、300mm、 200mm、および0。7ミクロンから5ミクロンまでの光分解能をサポートする小型ダイサイズの欠陥検査能力を備えた高いスループット検査ツールが作成され、幅広いデバイス形状をカバーします。この資産は、プロセスを最適化し、サイクルタイムを短縮するように設計された、完全に自動化された静かで使いやすい設計に収容されています。KLA/TENCOR 2131は、高度な欠陥検出機能を内蔵しており、実際の結果と予想される性能を比較することができます。欠陥検出ソフトウェアは、クリティカル次元の欠陥やその他のマイナーなパフォーマンスの問題など、プロセス内のあらゆる異常をユーザーに警告します。このモデルはまた、使いやすく理解しやすいカスタマイズ可能なグラフィカルユーザーインターフェイスを提供します。KLA 2131は、特定の技術に最適化された4層または8層モデルで光層検査を提供します。ユーザーは、特定のレイヤーまたはレイヤーの組み合わせを検査することができます（検査の精度を最適化するために）。また、幅広いダイナミックレンジを備えているため、さまざまな材料の厚さやレイヤーパターンを補うことができます。TENCOR 2131は、高精度で再現性のある複数のサイトで測定と比較を行うことができます。この機器には、欠陥スキャナやマップビューアなどのマップベースの欠陥レビュー機能も含まれており、ユーザーがプロセス結果を視覚化して迅速な意思決定を行うのに役立ちます。さらに、3Dクリティカルディメンション、マイクログラフレビュー、自動化されたステッチプロービングなど、ウェハレベルの非光学検査機能を提供します。2131は、レポート生成、ヒストグラム、トレンド分析などの高度なデータ収集および分析機能を提供し、プロセスと歩留まり制御をサポートします。システムからのデータは、データ分析ツールで使用するためにSPCフォーマットのファイルに格納することができます。合計すると、KLA/TENCOR 2131は、最も要求の厳しい生産および大量のスループット要件向けに設計された高度なマスクおよびウェーハ検査ユニットです。使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイス、強力な欠陥検出ソフトウェア、マップベースの欠陥レビュー機能、堅牢なデータ取得および分析機能を備えています。この機械は異なったサイズおよび形のいろいろな半導体構造の精密な欠陥の点検そしてプロセス制御を保障します。