中古 KLA / TENCOR 2131 #168852 を販売中

KLA / TENCOR 2131
ID: 168852
Defect Wafer Inspection System Slight scuff marks on machine.
KLA/TENCOR 2131マスクおよびウェーハ検査装置は、ウェーハマスク検査、計測、欠陥レビューのための包括的な検査システムです。容易な使用および高性能のために設計されていて、単位は高い歩留まりおよびプロセス制御を保障するために自動化されたイメージの獲得、イメージ点検および欠陥の検討を提供します。KLA 2131は、難易度の高いマスキング技術でも欠陥画像を高精度でキャプチャするように設計された高解像度CCDカメラと照明モジュールを備えています。これにより、0。02ミクロン以下のピンホールや表面汚染物質など、あらゆる欠陥を検出して特徴付けることができます。また、装置の迅速なアライメント、パターンマッチング、欠陥識別を可能にする自動制御ツールも備えています。これにより、不良マスクのトラブルシューティングと分析が容易になり、プロセス制御と高い歩留まりを確保できます。TENCOR 2131には、ウェーハを高精度に測定するための高度な計測ツールも含まれています。この計測ツールには、高精度で再現性の高い高速光学アライメントアセットが含まれています。また、厚さ、表面温度、その他の特性を含む欠陥画像のパラメータを正確に測定するための高度な測定および特性評価アルゴリズムも豊富に用意されています。2131は直感的なユーザーインターフェイスも備えており、ユーザーはさまざまな機能とレビュー画像をすばやくナビゲートできます。さらに、マスク&ウェハ検査装置を既存システムに容易に組み込むことができ、高速データ交換と効率的な機械間通信を可能にします。要約すると、KLA/TENCOR 2131マスクおよびウェーハ検査システムは、迅速かつ正確なマスキング検査、計測、および欠陥レビューのための包括的なツールを提供します。自動化された制御ユニットと高解像度のCCDカメラにより、0。02ミクロンまでの欠陥を正確に検出して特徴付けることができ、高い歩留まりとプロセス制御が可能です。さらに、直感的なユーザーインターフェイスと既存のシステムへの容易な統合により、このツールは非常に効率的で生産的です。
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