中古 KLA / TENCOR 201 #293651161 を販売中

KLA/TENCOR 201は、半導体製造工程およびポストプロセスにおいて、高解像度の画像と欠陥認識を提供する最先端のマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、検査を合理化し、マスクとウェーハジオメトリの両方で欠陥と特徴を迅速に識別できるように設計されています。KLA 201エンジニアリングユニットは、電気光学技術と短波長テクノロジーの組み合わせにより、高いスループットと歩留まり性能を維持しながらナノスケール分解能を実現します。このマシンは、最新のGen 3光学技術を活用したいくつかのコンポーネントで構成されています。マスクやウェーハ基板の微細なバリエーションや欠陥の発生を検出する一連の自動ビジョンシステムを備えています。このツールは、単純な構造から複雑な設計まで、さまざまな加工基板を検査することもできます。このアセットには、欠陥の正確な検出と分類を可能にする高解像度イメージングモデルが装備されています。さらに、この装置には高出力検査光源が含まれており、基板の欠陥を一貫して正確に評価することができます。TENCOR 201光学システムには、欠陥認識およびプロセス識別用の画像解析および計測ソフトウェアも含まれています。高度なパターン認識アルゴリズムを使用して、そうでなければ見逃される可能性のある小さな欠陥を特定します。さらに、このユニットは、マスクとウェーハの両方のさまざまな機能を識別し、分析する機能を提供します。これにより、デバイスがさらにプロセスステップを進める前に必要な修正や改善を検出することができます。このマシンには、さまざまな検査を評価するためのさまざまな高度なツールとツールセットが装備されています。ステインおよびイメージング解析、および自動検査を使用して、製造工程の各段階で欠陥検出を保証します。これにより、全体的な歩留まりを改善し、より正確な結果を得ることができます。201マスクおよびウェーハ検査ツールは、半導体企業やウェーハメーカーにとって貴重なツールであり、堅牢なソリューションと歩留まり性能を提供します。その高度なビジョンアセットと画像解析機能は、あらゆるデバイスの視覚評価と欠陥認識に自信を与えます。