中古 KLA / ICOS WI-2200 #9228011 を販売中

KLA/ICOS WI-2200 Mask and Wafer Inspection装置は、重要なパターン材料の高速かつ高精度な検査を可能にする自動フルフィールドイメージングシステムです。このユニットは、レーザーとデジタルオプティクスを使用して、nmレベルの解像度での検査を可能にし、さまざまなウエハレベルおよびマスクレベルのアプリケーションに最適化されています。ウェーハやレチクルなどのパターン化された素材の画像をキャプチャし、それらの画像を特殊なアルゴリズムで分析して設計からの逸脱を検出することで動作します。このツールは、リアルタイムでデータを処理することができ、プロセスの欠陥を迅速に識別するためのデータの自動ソートおよび分析が可能です。KLA WI-2200は、高速スキャン時間と低コストで高いスループットを提供します。このアセットは、全場欠陥検出、フォーカスマッピング、イメージステッチ機能などの強力なイメージングおよび分析ツールを備えています。ウェーハレベルとマスクレベルの両方のアプリケーションで、偽陽性レートを最小限に抑えて再現可能な精度を提供します。自動化されたアルゴリズムにより、プロセス制御と認定の高速化も可能になります。ICOS WI-2200は、自動検査に加えて手動検査機能も提供しており、マスク/ウェーハ上の欠陥を直接表示およびマークすることができます。このモデルには、プロセス制御、キューイング、ランタイム解析機能も含まれています。WI-2200は、フロントとバックサイド、IR、 OPC、計測、コンタクトホールなど、さまざまなレイアウトをサポートしています。それは容易に改善し、構成可能であるように設計されています、顧客は彼らの特定の必要性に従って装置を拡大し、カスタマイズすることを可能にします。また、リモートサポート機能も備えており、ユーザーは任意の場所からシステムのトラブルシューティングと最適化を行うことができます。全体として、KLA/ICOS WI-2200 Mask&Wafer Inspection Unitは高度で自動化された検査機であり、多様なパターン化された材料用途において、プロセス欠陥を迅速かつ正確かつ信頼性の高い検出を提供します。このツールは高度に構成可能で簡単にアップグレード可能で、リモートサポート機能により、費用対効果の高い検査ソリューションをお探しのお客様に最適です。