中古 KLA / ICOS WI-1500 #9096185 を販売中

KLA/ICOS WI-1500は、半導体デバイスの欠陥を正確かつ確実に検出できるように設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。KLA WI-1500システムは汎用性が高く、複数のウエハータイプ、コンデンサ、抵抗、フィルム、その他様々なデバイスの検査が可能です。ICOS WI-1500ユニットには、3つの屈折光学系と反射光学系、並びにタンデムイメージングおよびスペクトルイメージングセンサーが装備されています。さまざまな光学系は、ウェーハ全体に完全な欠陥カバレッジを提供する広い視野を提供します。明るい300-Watt Xe/NeソースとCoolLED近赤外線ソースを含む、照明源のペアが利用可能です。イメージングセンサーは、0。15ミクロンまでの解像度を持つ高精細検査モードを含む、最大0。4ミクロンの解像度でウェーハをスキャンします。この機械は、汚染物質、傷、短絡欠陥、ピンホールなど、さまざまな欠陥を検出することができます。さらに、WI-1500は自動欠陥信号の強化をサポートし、人間の目では見ることができない微細な傷や粒子を検出して読み取ることができます。KLA/ICOS WI-1500は完全に自動化されており、検査される欠陥の種類に応じて、1時間あたり最大500個のウェハスキャンを実行できます。また、セットアップ時間を最小限に抑えた迅速なスループットを実現します。統合されたウェーハ追跡ツールは、ウェーハの位置と向きを追跡し、欠陥測定の精度と再現性を保証します。このアセットには、迅速な欠陥検出と分類のための強力なツールスイートが装備されています。自動選別機能を備えており、経験豊富なオペレータが誤検出と真の盲目欠陥をすばやく区別できます。さらに、マルチレベルの欠陥分類モデルにより、機器はそのサイズと形状に基づいて欠陥を迅速に分類することができます。また、KLA WI-1500には、光反射率、金属線の粗さ、サイドウォールの粗さ、オーバーレイ精度、5Dアライメントなど、デバイスの性能に関する貴重な洞察を提供するために設計されたさまざまなデータ解析機能が含まれています。欠陥解析に加えて、自動レポートや複雑なグラフを生成し、ウェーハのパフォーマンスを詳細に把握できます。全体として、ICOS WI-1500はマスクおよびウェーハ検査に強力なソリューションを提供し、最大0。4ミクロンの解像度で欠陥を正確に検出および分類することができます。強力なデータ分析機能を提供し、詳細なレポートとグラフを生成し、デバイスのパフォーマンスに関する貴重な洞察を提供します。