中古 KLA / ICOS CI-T1X0 #9351874 を販売中
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KLA/ICOS CI-T1X0は、高度な技術ノードにおける高性能の欠陥検査用に設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。検査システムをカスタマイズして最適化された検査性能とウェーハおよびマスクサイズを実現するための幅広い構成を提供します。ベース構成は6インチ×8インチのスキャンモジュールを備えており、高解像度の検査機能を容易にします。さらに、システムは200mmまでのさまざまなウェーハサイズと互換性があります。KLA CI-T1X0は、Air Coated High-Numerical Aperture （AHN）顕微鏡と呼ばれる照明ユニットを備えています。この高精度な光学イメージングマシンは、マスクとウェーハ表面の最小欠陥を検出し、焦点を合わせるように設計されています。さらに、ツール内の光源は平面照明器であり、完璧なイメージングアライメントのために調整することができます。統合された高精細カメラは、迅速かつ正確な欠陥画像を提供します。Hi-Vision Sensorを搭載し、0。8 μ m以上の最小欠陥でもピックアップするように調整されています。さらに、このアセットはImageFocus+アルゴリズムでプログラムされており、コントラストと解像度を向上させ、正確な欠陥検出を保証します。このモデルは、ハードコーティングされたウェハチャックなどの耐久性のある耐振動部品で構築され、高精度のスキャンとイメージングを保証します。さらに、ICOS CI T1X0には強力なコンピューティング機能が搭載されており、顕微鏡とカメラから受信したデータを処理するように設計されています。ウェハスキャンセッションごとに、機器は、欠陥の場所、サイズ、種類などの詳細な欠陥レポートを生成して保存します。KLA CI T1X0は、最新のソフトウェア技術と高度なアナリティクスによってさらに強化され、複雑な表面問題に対する正確なウェーハ検査と迅速なソリューションをサポートします。高められたプロセス制御ソフトウェアは表面状態および欠陥の興味の傾向そして問題を識別する洞察を提供する強力な分析用具です。全体として、KLA/ICOS CI T1X0は、高度な技術ノード向けの強力なマスクおよびウェーハ検査システムです。高品質な検査結果を提供するために設計された非常に信頼性が高く効率的なユニットであり、最小の欠陥でも正確に検出できます。
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