中古 KLA / ICOS CI-T1X0 #9351871 を販売中
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KLA/ICOS CI-T1X0は、集積回路の製造に使用されるマスク&ウェハ検査装置です。IC製造工程で使用されるマスクやウエハーに形成されたパターンを検査するために特に使用されます。このシステムは、自動パターン認識、表面検査、プロファイル測定、オーバーレイ測定、冷却シャワー、光源など、いくつかのコンポーネントで構成されています。KLA CI-T1X0ユニットの自動パターン認識は、マスクとウェーハの欠陥の有無を特定するために使用されます。コンタクト、ビア、抵抗、コンデンサなど、幅広い機能を検査します。また、ウェーハの表面やエッジの汚れや汚れも探します。表面検査は、マスクとウェーハの表面に存在する欠陥または異物を識別するために使用されます。これらのサーフェスは、明るいフィールド、暗いフィールド、およびコントラスト反転技術を使用して、さまざまな倍率で検査できます。プロファイル測定は、マスクとウェーハの厚さと厚さのバリエーションを測定するために使用できます。これらの測定は、様々な材料層と基板、ならびにあらゆる空隙またはその他の不連続性の間の関係を決定するためにも使用されます。オーバーレイ測定は、IC製造プロセスで使用される異なる材料とマスクのアライメントを測定するために使用されます。また、異なる層が適切に結合されていることを確認するのに役立ちます。クーリングシャワーは、検査工程でマスクとウェーハを涼しく保つために使用されます。これは、材料に発生する熱損傷のリスクを低減するのに役立ちます。最後に、ICOS CI T1X0の光源は、異なる波長で材料を照らすように設計されています。これにより、マスクとウェーハの詳細な分析が可能になり、欠陥や不純物が存在することが明らかになります。全体として、KLA/ICOS CI T1X0マスク&ウェハ検査機は、IC製造プロセスを使用して生成される集積回路の品質を確保するために使用される貴重なツールです。自動パターン認識、表面検査、プロファイル測定、オーバーレイ測定、冷却シャワー、光源により、このツールはICに存在する欠陥を正確に検出できます。
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