中古 KLA / ICOS CI-T130 #9304378 を販売中

KLA/ICOS CI-T130は、マイクロエレクトロニクス業界における半導体マスクおよびウェーハの検査用に設計されたマスク&ウェーハ検査装置です。最先端のラインスキャンカメラや光学プロファイルセンサーなど、高度な画像処理ソフトウェアと高度な光学技術を組み合わせたシステムです。これにより、正確な欠陥解析と迅速な結果を提供する強力で自動化された検査ソリューションが作成されます。KLA CI-T130は、Visiononix Falcon 5V4電子ビーム検査ユニットを使用して、トップダウンとサイドビューメトロロジーの両方で完全な3D表面解析を提供します。その4つの投影とレンズは、フィルターを使用せずに0。2ミクロンの小さいパターンの0。35ミクロン分解能イメージングを提供します。これにより、機械は最も小さな欠陥を正確に検出することができます。このツールには、高速で超高感度のラインスキャンカメラも装備されています。このカメラは、欠陥検出用に3。5ミクロンの解像度を持ち、優れた画像透明度で大小の両方の構造をキャプチャすることができます。光学プロファイルセンサは、接触穴などの特徴の深さを測定したり、ウェーハまたはマスク表面の浮き上がり、突出、またはアンダーカットの特徴を検出します。検査機能とは別に、ICOS CI-T130はデータ比較、欠陥解析、歩留まり解析の機能を提供します。これは、歩留まりの重大な欠陥を検出し分類するための統合パターンマッチングアルゴリズムを使用しています。検査アセットはまた、検査を設定し、結果を表示するためのグラフィカルインターフェイスを提供します。CI-T130は使いやすく、使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイスと直感的なワークフローを備えています。また、複数の言語をサポートし、詳細な簡略化を支援する高度なグラフィックスを備えています。正確なステージ位置決めモデルを備えており、ウェット処理や特殊アプリケーション用のオプションのアクセサリで拡張することができます。結論として、KLA/ICOS CI-T130は、高度なイメージングおよびパターンマッチングアルゴリズムと高度な光学および3Dイメージングシステムを組み合わせた、迅速かつ正確なイメージングのための高度なマスク&ウェーハ検査装置です。