中古 KLA / ICOS CI-T120 #9293270 を販売中

KLA/ICOS CI-T120は、あらゆるサイズのマスクやウェーハなど、幅広い基板を迅速かつ正確かつ信頼性の高い検査ができるように設計された高精度マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高度な光学技術を使用して、マスクとウェーハの両方の欠陥を正確に検出、検査、測定し、表面粒子欠陥を検出するために使用することができます。このユニットは、最大の光スループットと画像精度のために設計された、ソリッドステート、テレセントリックイメージングコラムを備えています。高感度CCDカメラと組み合わせることで、マスクやウェーハ表面の高画質画像を撮影することができます。機械はまた異なった基質のサイズおよび形を収容するために調節することができます。KLA CI T120は、イメージング機能に加えて、高解像度の測定と粒子異常の調査が可能なハイエンドのイメージングツールも備えています。統合された機械的ステージにより、アセットは基板を段階的に移動させることができ、正確な欠陥検出とイメージングを可能にします。さらに、各マスクの設計を正確に調整および測定し、精度と再現性を確保するために設計された自動マスクアライナーも装備されています。ICOS CI T-120はまた、非常に効率的な欠陥レビューと意思決定プロセスを備えています。この装置は、欠陥位置、サイズ、特性を備えた詳細な分析レポートを生成し、欠陥の迅速かつ正確な検出と分類を可能にします。さらに、このシステムは強力なユーザーインターフェイスとオートメーション機能を備えており、検査を迅速かつ簡単にカスタマイズしたり、ウェーハを追加および削除したり、画像やレポートを表示したりすることができます。全体的に、CI T120は強力でありながら直感的なマスクおよびウェーハ検査ユニットであり、さまざまな欠陥を検出および測定するように設計されています。このマシンは、非常に高い精度を提供することができ、詳細な欠陥情報とユーザーインターフェイス機能の組み合わせを提供します。大容量マスクやウェハ検査、バッチプロセス制御などの用途に最適です。さらに、その柔軟な設計のおかげで、CI-T120は他の多くの検査および計測アプリケーションでの使用に適しています。