中古 KLA / ICOS CI-T120 #9237030 を販売中

KLA/ICOS CI-T120は、ウェーハおよびマスク製造業界向けに設計された洗練された検査装置です。高度なレーザーイメージング技術、スペクトルイメージング、アルゴリズム解析を組み合わせて、半導体材料の表面に微小粒子などの汚染物質を検出します。検査システムには高解像度レーザーイメージング（HRLI）ユニットが搭載されており、ウェーハやマスクの表面欠陥をリアルタイムで撮影することができます。これにより、オペレータは最大25ナノメートルのサイズの汚染物質を可視化し、再現可能な結果を確保するためにセットアップを正確に調整することができます。KLA CI T120には、HRLIと連携して異なる欠陥の表面反射率のわずかな違いを検出する高度なスペクトルイメージング（SI）マシンも含まれています。SIツールを使用すると、HRLIで検出できない欠陥サーフェスの不整合を識別できます。検査資産には、アルゴリズム分析のための最新のアルゴリズムが装備されています。これにより、自動検査が可能になり、最も小さな欠陥を検出することができます。それは象徴的に欠陥と非欠陥の両方をクラスタし、その後、汚染を識別するために様々な統計モデルを適用します。これにより、モデルは正確に検出され、検出されない可能性のある非常に小さな違いを識別することができます。ICOS CI T-120もモジュール式で拡張可能です。そのフレームワークは、高度なアプリケーションのための追加の検査モジュールのアップグレードと統合を可能にするように設計されています。さらに、装置はリアルタイム制御とオフライン解析の両方の機能を提供します。全体として、KLA/ICOS CI T-120は堅牢で効率的なウェーハおよびマスク検査システムです。HRLI、 SI、アルゴリズム解析を組み合わせることで、これまでにない精度で表面欠陥を検出することができます。さらに、モジュラー設計により、さまざまなアプリケーションと、特殊なタスク用の追加モジュールの統合が可能になります。