中古 KLA / ICOS CI-T120 #9194219 を販売中

KLA/ICOS CI-T120は、フォトマスクと誘電体ウェハの両方の欠陥の検出と識別を可能にするマスクおよびウェハ検査装置です。KLA CI T120は、半導体製造プロセスで最高レベルの品質と信頼性を維持するように設計された完全自動化システムです。ICOS CI T-120は、優れた検査機能を提供するために、一連の最先端のイメージング技術を組み込んでいます。スキャンレーザービームと高解像度の画像キャプチャを備え、フォトマスクやウェーハの詳細な画像を生成します。画像は、特殊なアルゴリズムによって分析され、マスクとウェーハの表面上の最小の欠陥を検出して識別します。このユニットには、ICOS CI-T120によって生成された多層画像の収集、処理、および保存を可能にする高度なデータ管理マシンが装備されています。このデータを取得し、ベンチマークイメージと比較して潜在的な欠陥を特定することができます。また、KLA CI T-120は直感的なソフトウェアインターフェイスとパターン認識ツールを内蔵しており、データの制御と分析を容易にします。KLA CI-T120は、シリコン、ポリシリケート、金属など、さまざまなマスクやウェーハの検査に使用できます。これにより、幅広い材料の欠陥を検出して特定することができます。このモデルは、欠陥のないガラス、フォトマスク、0。1から2 μ mの高さのウェーハなど、さまざまな基板を検査μことができます。優れた検査機能を提供するだけでなく、CI T-120も高効率で信頼性があります。高速イメージング装置を備えており、1時間あたり最大200枚のウェーハまたはマスクの検査が可能です。また、システムはダウンタイムを最小限に抑えるように設計されており、ユニットが常にピーク性能で動作していることを保証します。全体として、ICOS CI T120は、高度なイメージング技術とユーザーフレンドリーな機能をうまく組み合わせて、半導体製造の最高品質と信頼性を保証する、印象的なマスクおよびウェハ検査機です。包括的なデータ管理ツールと直感的なソフトウェアインターフェイスにより、効率的な検査プロセスを可能にし、最小の欠陥を特定して修正することができます。