中古 KLA / ICOS CI-T120 #293812251 を販売中

KLA/ICOS CI-T120は、半導体業界で採用されている、潜在的な半導体欠陥を特定し、決定するために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。高度な画像処理アルゴリズムを使用して、マスクやウェーハの画像を非常に高解像度（最大16メガピクセルの画像処理能力）で分析します。さらに、6軸ウェーハステージ、4軸マスクステージ、垂直アライメントランプを備え、特殊なタスクのための高スループットイメージングを実現します。また、同一の比較画像から統計的に重要なデータポイントを自動的に測定することができる金型関連ワイヤ製品や3D構造認識を自動的に評価するために使用できるContact Image Sensor （CIS）などのパターンを分析する機能を備えています。KLA CI T120は、欠陥レビュー機能、誤差厚膜認識、TFTライン測定およびレビュー、チップ全体の測定（高精度の欠陥レビューを可能にする）、および潜在的な欠陥のはんだの低下を分析する機能も備えています。このユニットには、露出前にマスクを検査するために設計された「マスクスキャナ」と、製造工程中にウェハの検査と特性評価を可能にする「ウェハスキャナー」という2つの異なるスキャナが装備されています。マスクスキャナは、照明用の高性能LEDと2つの高解像度カメラを使用して、マスクの拡大画像をキャプチャして正確な評価を行います。ウェハスキャナは、高度なUVソースとイメージングマシンで構成されており、ウェハ全体の高速キャプチャと画像収集を可能にします。ICOS CI T-120は、非常に高速なデータ取得速度で信頼性の高いインライン検査を提供することができます。このツールのために特別に設計された新しいデータ取得技術とアルゴリズムを使用することで、イメージングスループットが向上しました。オペレータは、統合された欠陥レビュー、特定の欠陥タイプのレビュー、またはチップレベルの検査の3つの検査モードを使用して、包括的な欠陥検査を作成できます。これにより、追加の機器に投資することなく、大量のデータを迅速に評価できます。さらに、検査レシピを組み合わせることで効率を最大限に高め、ウェビング検査と誤欠陥の乗算を減らすことができます。結論として、KLA/ICOS CI T-120は、16メガピクセルのイメージング、6軸ウェーハステージ、4軸マスクステージ、垂直アライメントランプ、およびContact Image Sensor （CIS）などのパターン分析機能を備えた、高度で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査アセットです。包括的な検査モードと大量のデータの迅速な評価を組み合わせることで、欠陥を迅速に評価し、半導体の生産を自動化することができます。