中古 KLA / ICOS CI 9450 #9156476 を販売中

KLA/ICOS CI 9450は、半導体リソグラフィに使用されるフォトマスクやウェーハの高精度画像および解析用に特別に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、レーザー照明、高度な光学、コンピュータ制御ステージ機構など、イメージングおよび解析戦略の一環として、高度な光学技術を使用しています。高解像度イメージング機能を備えた4メガピクセルカメラを搭載し、フォトマスクやウェーハの細線特性を精密に観察できます。6象限のリングイルミネーションマシンを採用し、視野全体にわたって正確で均一な照明を提供します。光源とコリメータは、拡散照明とレーザー照明角度と強度の簡単な選択と制御を可能にします。91メガピクセル検出器アレイは、明るいモードと暗いモードの両方で高解像度のイメージングを提供します。これにより、重要な電気特性サイズを正確に測定できます。また、ウェーハ上のアドレスパターンを検査するために、高解像度のモノクロccdカメラを使用しています。検出器配列はまた、パターンの画像を様々な照明角度やスケールでキャプチャすることができます。このツールには、マスクまたはウェーハイメージの詳細な分析を提供するための高度なアルゴリズムも多数組み込まれています。これには、光学文字認識、低コントラスト強化、低露光検査、画像研磨が含まれます。このアセットには、画像を分析するための多くの自動化されたプロセスも含まれています。これらには、自動ウェハ分類、自動欠陥識別、自動故障チップ検出、および自動フォーカススキャンが含まれます。欠陥検査レポートを生成することもできます。イメージングや解析に加え、プリプロダクションマスクの検証やプロセス制御にも使用できます。また、効率と精度を最大限に高めるために、ウェーハとマスクの比較も可能です。結論として、KLA CI 9450システムは、マスクおよびウェーハ検査用に設計された非常に洗練された精密な機器です。高度な光学技術とアルゴリズムを活用し、半導体リソグラフィーパターンの高解像度イメージングと詳細解析を提供します。さらに、高速かつ正確なデータ分析のためのさまざまな自動化されたプロセスが組み込まれています。