中古 KLA / ICOS CI 8250 #9156475 を販売中

KLA/ICOS CI 8250は、大量の半導体製造のために開発されたマスクおよびウェハ検査装置です。非接触光イメージング技術を搭載しており、5倍から800xまでの広範囲な倍率を実現しています。これにより、最大25ナノメートルのサイズの欠陥を検出することができます。また、特許取得済みのDual-Light Laser Illumination （DLI）機能を備えており、パターンや故障を含むコンテキスト上の欠陥を検出できます。このツールには、多数のソフトウェア機能も含まれています。これには、マスクまたはウェーハ上の機能を自動的に識別し、典型的な欠陥を特定し、それに応じてウェーハを拒否または受け入れられるソフトウェアがあります。このアセットは、インライン、絶縁、またはランダム分布にあるパターンや機能の範囲を正確に検出できます。また、マルチビューの欠陥レビューと欠陥カウントの機能も備えています。KLA CI 8250のさらなる機能には、完全自動ウェーハアライメントモデルと、自動フォーカス、露出、マスクチルト機能が含まれます。これにより、機能を効果的に整列させることができ、イメージング装置は検査中にウェーハまたはマスクに完全に焦点を合わせることができます。ICOS CI-8250に含まれているソフトウェアには、リアルタイムの欠陥検出と分析を可能にするオンラインイメージング解析（OIA）システムが含まれており、また、高速かつ正確な自動欠陥分類のための直接欠陥認識（DDR）ユニットがあります。CI-8250は、最も要求の厳しい半導体生産環境のために設計された高性能検査機です。小さな欠陥を迅速かつ正確に検出することができ、生産ラインと研究室の両方で使用することができます。その広範囲の拡大、DLI機能、およびソフトウェア機能により、最も先進的なウェーハおよびマスク検査システムの1つです。