中古 J-MAR S2610-01-01 #9211242 を販売中

J-MAR S2610-01-01は、半導体業界で使用される高精度マスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、高度な光学系、レーザー、自動化されたソフトウェアベースの検査技術を使用して、シリコンウェーハ、マスク、インターコネクトなどの幅広い先端材料の欠陥を正確に測定し、正確に検出します。このユニットには、1024x1024解像度の顕微鏡CCDカメラを含むさまざまなセンサーが装備されています。この高解像度カメラは、オペレータがナノメートルスケールまでの最小の表面欠陥を検出することができます。また、高精度な測定のために、0。05ミクロンのスポットサイズの平行共焦点レーザー装置が付属しています。また、LBS （Laser Beam Stripping）と呼ばれる独自の光学技術も備えており、0。1ミクロンという薄い材料層でも検出することができます。アセットには、WIP Control Model （WIPCS）と呼ばれるオーダーメイドのソフトウェアパッケージが搭載されています。このソフトウェアは、パターンマッチング、3D形状解析、最適な解析など、強力で正確な欠陥検出機能をユーザーに提供します。これにより、エレクトロフォトグラフィー（Eビーム）や高度なリソグラフィーなどの最も洗練されたプロセスでも、正確かつ効果的に監視することができます。先進的な光学技術やセンシング技術と組み合わせて、S2610-01-01装置には高度な自動プロセス制御機能も搭載されています。これらの機能により、すべてのプロセスが確実かつ効率的に動作するようになります。これらの機能の制御された自動化と統合により、運用コストの削減とプロセス歩留まりの改善が可能になります。最後に、このシステムには、欠陥監視、フィーチャー測定、およびその他の重要なプロセス変数の詳細な評価用のデータ分析ソフトウェアが付属しています。この分析により、最高の効率で最高品質の製品出力が保証されます。要するに、J-MAR S2610-01-01は、高度な光学系、レーザー、自動化されたソフトウェアベースの検査技術を組み合わせて、ナノメートルスケールまでの欠陥を検出し、正確に測定するハイテクマスクおよびウェハ検査ユニットです。また、最適な製品出力のためのプロセス制御機能とデータ分析ソフトウェアを備えています。この機械はEビームおよび高度のリソグラフィのような高度プロセスにとって理想的です。