中古 IRVINE OPTICAL Ultrastation 3E #150934 を販売中

IRVINE OPTICAL Ultrastation 3Eは、包括的なパターン解析とプロセスのトラブルシューティングのための比類のないイメージング技術を提供する自動マスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、強力で高解像度の光学ユニットを使用して、フォトマスクやウェーハの小さな欠陥や不均一性を検出します。Ultrastation 3Eは、光学と光学の2つの検出器を使用して、マスクまたはウェーハ上の構造の薄い層を正確に画像化します。この光検出器は、特殊な光学顕微鏡を使用して、マスクやウェーハ表面の高解像度画像をキャプチャします。音響光学検出器は、音響結晶を利用して、マスクまたはウェーハ上の構造的な不均一性を検出します。IRVINE OPTICAL Ultrastation 3Eは、この2つの技術を組み合わせることで、非常に短い波長でも微細な欠陥を正確に画像化し、特定することができます。Ultrastation 3Eは、可変倍率や回転機能などの高度なイメージング機能も備えており、非常に正確な検査が可能です。さらに、IRVINE OPTICAL Ultrastation 3Eは顕微鏡の明るさ設定を選択的に制御し、観察に必要な光の量だけを制御します。これにより、イメージング結果が向上し、マスク検査の解像度が向上します。Ultrastation 3Eはまた、耐久性と信頼性の高いプラットフォームのために、長い寿命と安定した性能を備えています。このマシンは、幅広い温度、圧力、湿度条件、および低照度条件で動作するように設計されています。さらに、IRVINE OPTICAL Ultrastation 3Eは、冗長なエアフローツールを使用して資産をほこりのない状態に保ち、メンテナンス要件を低減します。Ultrastation 3Eによって収集されたデータは、高性能な分析ツールを通じて分析およびレビューすることができます。このモデルは、プロセスおよび材料の欠陥を特定し、プロセスのパフォーマンスを分析し、欠陥をスキャンすることができます。直感的なユーザーインターフェイスと使いやすいグラフィカルインターフェイスを備えたIRVINE OPTICAL Ultrastation 3Eは、プロセスエンジニアを支援し、設計プロセスの初期段階での問題の特定とトラブルシューティングを支援します。Ultrastation 3Eはマスクおよびウェーハの点検のための理想的な解決で、高解像度で正確なイメージ投射およびプロファイリング能力を提供します。優れたイメージング機能と高度な分析ツールを組み合わせたIRVINE OPTICAL Ultrastation 3Eは、半導体業界にとって貴重なツールです。