中古 IRVINE OPTICAL Ultrastation 3B Model 2 #9157323 を販売中

IRVINE OPTICAL Ultrastation 3B Model 2は、半導体製造プロセスで使用する最先端のマスク&ウェーハ検査装置です。このシステムは、高度なリソグラフィで困難なマスクパターンを処理するための効率的なツールを提供します。また、エッジ欠陥を含むランダムな欠陥位置を分析するときにうまく機能するように設計されています。Ultrastation 3Bは、高精度を提供するために200um × 200mmの最大移動で電動xyステージを備えています。ステージには、ビデオレートの精度、滑らかな動き、正確な位置決めを提供することが求められています。このユニットには、より高速なツールを提供する強化された自動アライメントソフトウェアも含まれており、ツールセットアッププロセスに関連するダウンタイムをさらに短縮します。Ultrastation 3Bはブライトフィールドイルミネータを使用して、マスクやウェーハのエッジ検査に優れた視認性を提供します。最適化された通信カメラと組み合わせた明るい照明を備えたUltrastation 3Bは、高解像度で低レベルの欠陥を検出する機能を備えています。このマシンは、優れた画像取得品質のために、毎秒最大19フレームの画像キャプチャレートを備えています。さらに、このツールのカメラには3D適応光学が組み込まれており、イメージング効果が向上しています。Ultrastation 3Bには、マスク&ウエハハンドリング用の二軸搬送ロボットも含まれています。ロボットは、自動化されたチップキャプチャユニットを含むトランスポートアームを使用しています。チップキャプチャユニットは、ターゲットを迅速に特定し、エッジやチップ自体を損傷することなくマスクやウェーハをキャプチャする機能を備えています。IRVINE OPTICAL ULTRASTATION 3。B MODEL 2は、洗練された効率的なマスク&ウェーハ検査アセットです。最新の技術を組み合わせ、業界をリードする包括的で高品質なマシンを提供します。Ultrastation 3Bは完全にカスタマイズ可能で、さまざまなウェーハパターン検査ニーズに包括的なソリューションを提供します。このモデルは、半導体専門家の選択肢であり、ウェーハパターン検査システムにおいて、今後何年もの間、最高レベルの、費用対効果の高い、信頼性の高い選択肢であり続けることが確実です。