中古 IMS 200MH Electra MX #9389231 を販売中

IMS 200MH Electra MXは、半導体メーカー向けの最上位マスクおよびウェーハ検査装置です。高度な光学技術と高解像度イメージング機能を搭載し、半導体デバイスの欠陥を検出し、ウェハ全体の正確な位置を詳細に分析できます。このシステムは、精密なレーザースキャニングユニットを使用して、毎秒最大60mmのスキャン領域で最大2000万画素/秒をキャプチャします。また、ブライトフィールド、ダークフィールド、偏光、輪郭解析、位相シフトレベルなどのさまざまなイメージングモードを備えており、粒子、向き、傷、インデント、ブリッジなど、さまざまな種類の欠陥を検出できます。また、線幅、線長、空間などのパラメータを16nmと小さく測定できる測定アルゴリズムも備えています。マスクやウェーハのパターンを比較できる機能抽出アルゴリズムと統合されているため、製品の特徴を正確かつ再現可能に分析できます。機械は使いやすさとスピードを念頭に置いて設計されています。ツールの操作、構成、管理を容易にするグラフィカルユーザーインターフェイスを備えており、シミュレーション、分析、およびエラー報告機能を提供します。アセットはUSBまたはイーサネットポートを介して制御され、リモート操作と制御が可能です。このモデルは、連続スキャン、エリアスキャン、手動スキャンという3つのモードで動作するように設計されています。連続モードでは、装置は1時間あたりの30ウェーハまでスキャンできます；エリアスキャンモードでは、1時間あたり最大50ウェーハをスキャンできます。そして手動スキャンモードでは、それは1時間あたりの10のウェーハまでスキャンできます。また、低真空機能を備え、粒子のない表面の評価を可能にし、寿命にわたって一貫した照明を提供する長寿命のLED光源を備えています。このユニットは、VDI/VDE、 ESD規格、およびISO規格に準拠しています。さらに、強力なデータ処理機能を備えており、大きなファイルや複雑な画像の迅速な分析を可能にします。全体として、200MH Electra MXは半導体メーカーに適した高度なマスクおよびウェーハ検査機です。高解像度のイメージング機能と強力なデータ処理機能を備えているため、半導体デバイスの高速かつ正確な解析と評価が可能です。