中古 HITACHI PD 3000 #293754411 を販売中

HITACHI PD 3000
ID: 293754411
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1994
Wafer inspection system, 8" 1994 vintage.
HITACHI PD-3000は、パターンの重なり合い、ラインの厚さの薄さや過度の厚さ、微細な粗さなどの欠陥を検出する目的で、マスクやウェハを迅速かつ正確に検査できるマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、デバイス製造とパッケージ化された半導体デバイスの両方の用途で使用するための可変視野で設計されており、可変サイズの検査領域を可能にしています。PD-3000には、キャリブレーションターゲットを参照して、サンプルの真の色の画像の精密な光の調整が可能なイメージキャプチャユニットが含まれています。また、3段階の光学機器、2つの水平変位イメージャ、および画像条件を自動計算するためのアルゴリズムベースの画像処理ツールを備えています。最適な性能を得るために、光学アセットのアライメントが自動的に調整されます。HITACHIの画像処理モデルは、0。01ミクロンの精度でマスクやウェーハの特徴を検出することができます。これまでの技術では検出できなかった欠陥を検出する装置です。また、画像の明るさやコントラストの変化を検出し、自動的に調整することもできます。検査装置はまた、非常に小さな欠陥を検出するために画像を手動で解剖することができます。さらに、LED、カメラセンサ、光源など様々なパラメータを調整し、最適な性能を実現する日立PD-3000。これにより、画像取得の精度が向上し、ウェーハやマスクの高精度な検査が可能になります。また、画像取得にオペレータが介入しないように設計されており、無人運転が可能です。このツールは、過酷な環境条件下でも画像取得の精度を確保するために、温度や湿度制御などの環境仕様で設計されています。さらに、データを効率的に管理するための制御インターフェースを備えており、複数のユーザーが同じデータにアクセスできるようになっています。全体的PD-3000は、高精度で欠陥を検出するように設計された高度なマスクおよびウェーハ検査モデルです。この装置には、自動画像処理システム、可変視野、環境制御などのさまざまな機能が含まれており、ユニットは一貫して正確な画像を生成し、迅速かつ正確に欠陥を検出することができます。
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