中古 HITACHI LS-6700 #9087166 を販売中

HITACHI LS-6700は、半導体業界向けに開発されたマスク&ウエハ検査装置です。ウェーハとマスクの両方でナノメートルスケールまで正確に欠陥を測定することができます。光源ユニット、光学スキャンユニット、コンピュータユニットの3つのモジュラー部品で構成されています。光源ユニットは、光学スキャンユニットにビームスプリッターを介して指示される広いスペクトルの光を放出します。光学式スキャンユニットは、高精細カメラ、レンズ、リアルタイム位置検出ユニットで構成されています。これらのコンポーネントを組み合わせることで、マスクとウェハ検査機は、ナノメートルレベルの精度でウェーハまたはマスク表面の高解像度画像をキャプチャすることができます。コンピュータユニットは、大容量のメモリと強力な処理能力で構成されており、イメージングデータを迅速に処理できます。また、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を備えており、ユーザーはマスク&ウェーハ検査プロセスを簡単かつ迅速にカスタマイズできます。HITACHI LS 6700は、欠陥の大きさや位置の情報を提供するだけでなく、さまざまな欠陥タイプを認識しています。これには、オープンショーツ、ステップハイト、ピット、およびその他の表面の欠陥をナノメートルスケールまで測定することが含まれます。内部アルゴリズムのおかげで、マスク&ウェーハ検査ツールのユーザーは、潜在的な欠陥をすばやく識別してフラグを付けることができます。再現性と精度の面では、LS-6700は市場で最高のシステムの一つです。0。9％の優れた再現性と、最大0。2ナノメートルの位置決め精度を誇ります。このアセットはマルチダイウエハ検査にも適しており、最大4つのダイを一度に分析することができます。全体的に、LS 6700は優れたマスクおよびウェハ検査モデルであり、ナノメートルレベルの解像度で高精度な画像処理を提供できます。モジュール式の設計により、柔軟で使いやすく、強力な処理と再現性を備えているため、迅速かつ正確な欠陥検出が可能です。