中古 HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9389783 を販売中

HERMES MICROVISION/HMI eP4は、高精度ナノテク用途向けに最先端のイメージング技術を使用して設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、ミクロンレベルで欠陥や異常を検出できる包括的な検査ソリューションを提供します。この装置の統合された機能により、半導体ウェーハおよびマスクの効率的かつ迅速な欠陥解析が可能になり、生産の収率が向上します。このユニットは、3Dおよびフリップチップのパッケージ検査、マイクロ流体デバイス検査、マスク検査など、先進的な半導体製造およびチップ設計に幅広く適用されています。超短波長の多波長イルミネーションと可変光学系を搭載し、超高コントラストイメージングを可能にし、非常に小型で検出困難な欠陥を検出することができます。このツールの光学系には、デカップリングされた客観的および投影資産、プライムフォーカス目的、および自動フォーカス追従機能が搭載されており、広い視野と優れた画像深度を提供します。先進的な光学素子により、高解像度のイメージングと最大10倍の画像拡張が可能です。さらに、このツールはウーファー/ツイーター照明技術も可能で、ダイナミックレンジの変更とノイズ比の信号を向上させます。装置のユーザーインターフェイスは容易な運行および操作のために設計されています。これには、すべての機能とオプションにアクセスするためのカスタマイズ可能なメニューを備えた直感的なタッチスクリーンディスプレイが含まれています。入力デバイスに取り付けられたジョイスティックにより、光学ビューと制御設定を簡単に操作できます。このシステムは、明るいフィールドと暗いフィールドの両方のモードで標本を撮影することも可能で、優れた柔軟性を提供します。HMI eP4ユニットは、半導体の設計と製造に最適です。その高度な光学設計とユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、迅速で正確で信頼性の高い欠陥解析とマスク検査が可能です。このマシンは、最高品質のイメージングと高精度の測定を提供し、幅広いナノテク用途に適用できます。