中古 HERMES MICROVISION / HMI eP3 #9285021 を販売中

HERMES MICROVISION/HMI eP3は、最も要求の厳しい半導体生産要件を満たすことを目的としたマスクおよびウェハ検査システムです。あらゆる種類のマスクおよびウェーハ製造において、最高精度の測定および計測テストを提供することができます。HMI eP3は、光学ウェーハレビュー、欠陥解析、リソグラフィ検査、歩留まり管理、パターンウェーハの光学レビューなどのアプリケーションに最適です。その自動画像取得処理技術は、予期しないエラーを検出し、正確に処理することができます。HERMES MICROVISION eP3には、インテリジェントイメージング機能と強力な照明システムが搭載されており、デジタルイメージのキャプチャを調整するさまざまなソフトウェアツール、および測定の範囲と精度を備えています。これにより、マスクとウェーハの欠陥が正確に評価され、さらなる検査のためにフラグが立てられるようになります。EP3はHERMES MicroImageソフトウェアスイートによってサポートされており、画像解析と欠陥レビューに対する包括的なアプローチを提供するように設計されています。このソフトウェアスイートは、垂直/水平/斜めに反転した画像、コントラストの強化、拡大画像または拡大ビューなど、定義済みのさまざまな画像ビューを提供し、検査結果を詳細に分析します。さらに、HERMES MICROVISION/HMI eP3は、優れた光学系と画像解像度のシャープニングレートを提供し、サンプル輝度の均一性に基づいて露光時間を調整することができます。これにより、露出限界範囲を最適化し、画像キャプチャの精度を向上させます。さらに、HMI eP3には直感的なユーザーフレンドリーなインターフェイスが付属しており、オペレータは簡単に設定にアクセスして変更するために必要なすべての機器を提供します。ユーザーがラベル付けした機能とショートカットにより、インストールと実行にかかる時間を短縮できます。HERMES MICROVISION eP3は、さまざまな機能と機能を備えた包括的で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査システムで、半導体製造に最適です。自動化された画像取得と解析により、正確で信頼性の高い結果を提供できます。さらに、そのユーザーフレンドリーなインターフェイスは、迅速かつ簡単なセットアッププロセスを保証します。