中古 HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9389782 を販売中

HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP装置は、デバイスのトポグラフィの動的かつ包括的な後処理解析のために設計された高性能マスクおよびウェーハ検査システムです。このユニットは、ウェーハ製造プロセス全体にわたる欠陥とプロセス変数のリアルタイム検査と監視を使用して、包括的なリソグラフィプロセス制御を提供します。HMI eP3 XPは、マスクやウェハートポグラフィーの検査、アライメント、フォーカス、測定などの高度なリソグラフィーツールの包括的なセットを提供しています。このマシンは、光学的に密なマスクのための高倍率だけでなく、高度なレチクルと正確なオーバーレイ測定のための視野を備えています。また、パフォーマンスを損なうことなく、毎秒最大90フレームの画像を正確にキャプチャできる高速画像キャプチャも提供します。HERMES MICROVISIONHERMES MICROVISION eP3 XPは、充電結合デバイス（CCD）イメージングとレーザースキャンを使用して、正確で一貫した測定を得る新しい検査ツールを備えています。アセットの信頼性が高く効率的な設計は、結果が再現可能であり、困難な環境でも信頼できることを意味します。このモデルには、自動ズーム、フィーチャーファインダー、パターン認識などのさまざまなツールも含まれており、問題を迅速に特定して解決策を提案するために使用されます。さらに、XP eP3スキャンされたウェーハパターンで欠陥解析とオーバーレイ測定を可能にします。この装置は、表面スキャンとボリュームスキャンの両方を含む自動ウェーハパターン検査を可能にします。パターン解析モジュールは、スキャン画像とCADデータを組み合わせて、潜在的な欠陥を検出し、回路上に表示される前に問題の修正を可能にします。最後に、このシステムは膨大な量のデータを処理できる堅牢な測定コンソールを提供し、強化されたノイズ低減アルゴリズムと画像解析ツールを提供します。結論として、HERMES MICROVISION/HMI eP3 XPは強力なリソグラフィプロセス検査と制御を提供する強力なマスクおよびウェーハ検査ユニットです。このマシンは、高度な光学およびイメージング機能、ならびに自動解析およびデータ処理機能を提供し、ウェーハトポグラフィを正確かつ確実に測定し、潜在的な欠陥を検出および修正することができます。