中古 HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9309099 を販売中

HERMES MICROVISION/HMI eP3 XPは、半導体マイクロエレクトロニクスおよびナノエレクトロニクス製造における高度なプロセス制御および歩留まり最適化のための包括的で費用対効果の高いソリューションを提供するために設計された高精度マスクおよびウェハ検査装置です。単層マスクと多層マスクの両方で欠陥を検出するだけでなく、標準ウェーハと高効率ウェーハの両方で検出することができます。HMI eP3 XPは、サンプル全体をカバーする小さな視野（FOV）のコレクションを備えています。これにより、マスクおよびウェーハ検査の視野が製造プロセスのすべての段階に適していることが保証されます。このシステムには、2つの統合されたCCDカメラが装備されています。1つは非可視光照明用、もう1つは可視光照明用です。また、バックグラウンドノイズをフィルタリングしてシャドーイング効果を低減するための画像前処理エンジンと、サブミクロンレベルまでの最良の欠陥を検出するためのパターン認識ソフトウェアも備えています。このユニットは、シリコン、サファイア、石英、ポリシリコンなど、さまざまな基板で動作するように設計されています。フラット、カーブ、3Dなど、さまざまなサーフェスを自動精度で検査します。HERMES MICROVISION eP3 XPは、マスク、ウェーハ、基板の迅速かつ正確な検査を可能にします。信頼できる一貫した結果を提供し、高度な光学および画像処理アルゴリズムにより、プロセスの最大歩留まりを保護し、コストのかかるエラーとスクラップを削減します。このマシンには、自動化されたデータ分析とレポート作成用に設計された使いやすいソフトウェアも含まれています。EP3 XPは、エンタープライズソフトウェアシステムおよびデータサーバと統合され、検査結果の効率的な転送を容易にすることができます。サイトマッピング、地図サンプル、パターントラッキングなどの高度な機能を備え、様々な言語をサポートしています。HERMES MICROVISION/HMI eP3 XPは、フットプリントを最小限に抑えた、信頼性が高く効率的なマスクおよびウェーハ検査ツールです。大容量のサンプルサイズと複雑なレイアウトを一貫した精度と精度で処理でき、直感的なコントロールにより操作が容易になります。その特徴と性能は、高度な品質保証とプロセス最適化を求める半導体メーカーに適した選択肢です。