中古 ESTEK WIS-850 #293595284 を販売中

ESTEK WIS-850は、マスクおよびウェーハ画像の高性能検査およびレビュー機能を提供するように設計された高度なビジョンマスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、高解像度CCDカメラ技術と高度な画像処理アルゴリズムを組み合わせて、マイクロエレクトロニクスで使用される材料や構造の欠陥を迅速に検査および検出します。WIS-850は、ウェーハやマスク上のナノメートルスケールの構造や特徴を検査することができます。ラインパターン、フィーチャーサイズ、欠陥、膜厚、フォトレジスト機能、CDの不均一性を識別できます。このユニットは、正確な3D画像プロファイル測定のための高い焦点深度を有し、検査の信頼性を確保し、歩留まり損失を低減するためのマルチフィールド検証を統合することができます。このマシンは、欠陥認識、画像認識、パターンマッチングに独自の検査アルゴリズムを使用しています。不良コーティングや汚染物質によるピンホール、親水性または疎水性の欠陥、エアギャップによる表面変形などの表面欠陥を検出できます。また、信頼性の高いデータ駆動型の欠陥解析を可能にする、データ削減と表示機能を備えています。このツールの統計品質管理（SQC）モジュールを使用すると、テスト結果と目標値を比較し、プロセスのパフォーマンスを監視し、製品の品質とプロセスのパフォーマンスの相関を示すリアルタイムレポートを生成できます。このモジュールはまた、動的マルチパラメータのテストと欠陥の分類、ならびに拡大レンズ監視ツールを可能にします。ESTEK WIS-850はまた、個々のマスクやウェーハ画像を必要とせずにデバイス構造を迅速に見直すことができる高精度ウェーハ検査機能を備えています。また、初期の工具状態監視のための粒度、密度、形状を識別できる自動粒子検出および分類アセットも備えています。このモデルには、繰り返し検査を低減するビームデスキーバーモジュールと、1Dパターンと2Dパターンの両方の正確な欠陥分類のための高度な光学検査アルゴリズムも含まれています。WIS-850は、高度なハードウェアおよびソフトウェアコンポーネントで構成された強力なマスクおよびウェーハ検査装置で、プロセスと品質管理の損失を低減します。このシステムの堅牢な検査およびレビュー機能により、欠陥の検出、3Dイメージプロファイル測定の精度、マルチパラメータテスト、粒子検出と分類、および光学検査アルゴリズムが向上します。