中古 ESI WaferMark Sigma Clean #293642801 を販売中

ESI WaferMark Sigma Clean
ID: 293642801
ヴィンテージ: 2000
Wafer inspection system 2000 vintage.
ESI WaferMark Sigma Cleanは、高精度マスクおよびウェーハ検査装置です。このシステムは、生産環境におけるマスクとウェーハの両方を正確かつ信頼性の高い検査を提供し、検査プロセス中にラインを停止する必要がなくなります。このユニットは、高速な検査速度で完全なウェーハカバレッジが可能です。その複数の欠陥検出方法は、マスクとウェーハの両方にさまざまな欠陥を検出し、より大きな技術機能とテーパ機能を検査することができます。このマシンは、正確なマスク検査のために4つのカメラを内蔵しています。ウェーハを動かすことなくマスクとウェーハの両方をイメージできるように設計されており、迅速かつ正確な検査が可能です。サブリゾリューション機能を含む複数のマスク層の欠陥を検出することができます。また、顕微鏡やウエハハンドリング機能も備えており、ウエハーが動いていても正確な検査結果が得られます。WaferMark Sigma Cleanは、高速で正確で信頼性の高い欠陥検出を可能にする高度な画像処理機能を備えています。ボイド、クラック、ピットなどの物理的な欠陥を含む、マスクとウェーハの両方で幅広い欠陥を検出することができます。また、ショーツ、開口部、ブリッジなどの電気的欠陥を検出することもできます。正確で信頼性の高い検査を保証するために、このアセットには独自の光学ステージが含まれており、測定サイクルを通じてウェーハおよびマスク画像が焦点を合わせることができます。また、ソフトウェア制御の照明モデルを備えており、ウェーハまたはマスクイメージ全体に一貫した照明を提供します。さらに、ESI WaferMark Sigma Cleanは高度な自動化機能を備えており、毎時数百から数千のダイを自動検査できます。手動操作と自動化された操作の両方に対応しているため、さまざまな生産環境に適しています。また、ウェーハの取り扱いや処理、データ分析やレポート作成など、お客様固有のさまざまな要件に統合することもできます。全体として、WaferMark Sigma Cleanは強力で正確で信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査システムであり、生産環境に最適なソリューションです。その高度な自動化機能、高速検査速度、および複数の欠陥検出方法により、正確で信頼性の高い検査結果が保証されます。
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