中古 DATAPHYSICS OCA 40 #293607248 を販売中
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タップしてズーム
DATAPHYSICS OCA 40マスク&ウェーハ検査装置は、マスクとウェーハの両方を正確に測定するために設計されています。半導体製造における品質管理のための表面特性のデータキャプチャと分析を備えた高解像度イメージングを提供します。このシステムは、スルーレンズ、レーザーベース、3D位置計測および寸法計測、精密電動ズームユニット、トランス「Z」制御およびエアベアリング段、高速検査動作で構成されるモーションおよび制御サブシステムで構成されています。光学サブシステムには、高動力範囲の照明を使用するとともに、統合されたビデオキャプチャ、データ取得、分析機能が備わっています。視野、サンプリング距離、ピクセル解像度、スペクトル範囲など、さまざまなレンズを搭載しており、低倍率から高倍率まで幅広いイメージングパラメータを実現しています。オンボード解析ツールは、自動欠陥検出と認識（ADF-R）、有限要素モデリング、自動プロファイル追跡ピクセル数、面積測定と相関、3D座標ベースの登録などのデータ分析機能を提供します。このアセットには、眼鏡やマスク層の計測などの自動測定ツールも備えています。このモデルは、迅速で正確かつ再現性のある測定を提供するように設計されており、ウェーハメーカーにとって迅速なレビューとより正確な品質保証と歩留まり決定を可能にします。柔軟性が高く、カスタマイズされたパラメータをユーザーに提供し、複数の記録形式をデータ収集に活用することができます。OCA 40は、幅広い画像解析アルゴリズムと有用なパターン認識機能をサポートしているため、潜在的な欠陥を特定し、多数のマスクやウェーハを手動で検査する必要を減らすことができます。装置は携帯用フォームファクタで提供され、他の生産設備と同期することができます。全体として、DATAPHYSICS OCA 40マスク&ウェーハ検査システムは、効率的で高精度で再現性のある測定、マスクおよびウェーハ検査および検査検証の機能を提供し、半導体製造業における品質および生産管理に最適なツールです。
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