中古 DATAPHYSICS ACA 50 #9123550 を販売中

DATAPHYSICS ACA 50は、半導体ファブで使用するために設計された強力なマスクおよびウェーハ検査装置です。ウェハベースの欠陥および汚染の正確な欠陥および地形測定を提供します。0.07µmのような微小な波長欠陥の検出が可能で、高解像度のイメージングと解析が可能です。このシステムは、特許出願中の適応コントラスト技術を備えており、画像の明るさとコントラストを変調して検査結果を改善します。これは、プロセスに敏感な欠陥や汚染を検査する際に重要であり、複雑なレイアウトを持つデバイスにとって特に有用です。単位は正確、安全である赤外線光源を使用します。また、高度なマルチスペクトルイメージング解析機を備えており、複数のフィルターで画像データを同時に取得することができます。これにより、異なるサンプルタイプと基板であっても、正確で再現性のある結果が保証されます。ACA 50にはユーザーフレンドリーなユーザーインターフェイスがあり、セットアップと操作が簡単です。また、自動ウェハ登録、背景補正、欠陥スケーリング、イメージステッチ、画像最適化、ステージアライメントなど、検査タスクの効率と精度を高めるためのさまざまな高度な機能も含まれています。このツールは、自動サンプル処理の統合ステージを備えています。モーター式のX-Yメカニカルステージを搭載し、最大6 「x6」のサンプルサイズをサポートします。ステージは、効率的な検査のためにサンプルの正確な位置決めとアライメントを確保するために独自の技術が装備されています。この資産は、検査時間の短縮と精度の向上に役立つ、カスタム開発されたソフトウェアツールのライブラリと統合されています。これらのツールには、欠陥トラッカーツール、画像プリプロセッシングモジュール、およびウェハレベルの解析モジュールが含まれます。また、GUIベースの欠陥評価モデルと、すべての検査データを保存および整理する統合欠陥解析データベースも含まれています。DATAPHYSICS ACA 50は、高速で正確で反復可能な自動ウェーハおよびマスク検査プロセスを提供するように設計されています。包括的な分析機能と効率的な自動化をユーザーに提供することにより、機器は全体的なコストを削減し、歩留まりを向上させるのに役立ちます。