中古 CHAUVIN ARNOUX CA 6425 #9352728 を販売中

CHAUVIN ARNOUX CA 6425マスク&ウェーハ検査装置は、高度なウェーハおよびマスクリソグラフィの検査用に設計された半導体試験および測定システムです。これは、欠陥を検出するための高解像度のデジタルイメージングを提供する光学ステーションに内蔵されています。このユニットは、直感的なユーザーインターフェイス、自動化された機能、および特定のアプリケーションに合わせてカスタマイズできる測定機能を備えています。検査装置には、操作を制御する直感的で強力なグラフィカルユーザーインターフェイスを提供する統合開発ツールであるCHAUVIN-ARNOUX CA 6420/6421 Digital Video Toolsソフトウェアが付属しています。このソフトウェアを使用すると、コントラスト、輝度、バイナリ操作などの操作を実行することで、画像化されたウェーハやマスクを測定、分析、レポートすることができます。CA 6420/6421ビデオツールソフトウェアでは、エッジマスクやホールマスク認識、クロスマーキングなどの高度な機能も利用できます。CA 6425 Mask&Wafer Inspectionのその他の機能には、高解像度および低解像度イメージング用の可変視野、さまざまなタイプのマスクおよびウェーハ用の複数の照明オプション、画像キャプチャおよび比較機能、および自動欠陥分類およびレポート（ADCR）の拡張機能があります。CHAUVIN ARNOUX CA 6425マスク&ウェーハ検査ツールは、電動Zムーブメントステージ、電動および手動X-Yステージ、デジタルカメラ、2D BGAピック&プレース、ウェーハレベル測定システムなど、さまざまな外部検査機器やアクセサリと統合できます。正確さを確保するために、すべての外部デバイスは、特定のアプリケーションに従ってCHAUVIN-ARNOUXソフトウェアによって慎重に校正されます。さらに、CA 6425 Mask&Wafer Inspectionアセットを解析モジュールと統合することもでき、欠陥評価と欠陥分類とレポートの両方を可能にします。この解析モジュールは、ラインとエッジの幅、円と楕円のサイズ、および登録精度などのさまざまなテスト機能の自動測定およびレポート機能を提供します。全体として、CHAUVIN ARNOUX CA 6425 Mask&Wafer Inspectionモデルは、高解像度のイメージング、自動化されたカスタマイズされた測定機能、および統合された欠陥解析を提供する直感的で強力な機器です。これは、現在の半導体製造業界の高速ウェーハおよびデバイスマスクの生産要件を満たすように設計されています。