中古 CARL ZEISS AIMS 193 #293795556 を販売中
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ID: 293795556
ヴィンテージ: 2004
Mask qualification system
Control unit
Reticle size: 6"
Wavelength: 193 nm
Measuring source: Laser
Stage accuracy: ± 2 µm
illumination: 1.5%
CD Dynamic repeatability: 6 nm
CD Static repeatability: 4 nm
Operating system: Windows
2004 vintage.
CARL ZEISS AIMS 193は、最先端のマスクおよびウェーハ検査装置です。高解像度のモジュラー検査システムを搭載し、集積回路の製造に使用されるフォトマスクの最高品質を保証する理想的なソリューションです。CARL ZEISS AIMS193には、F-シータ補正歪み補正器が装備されており、イメージングビームが正確に集中してマスクの表面に整列することを保証します。これにより、マスク全体が検査され、すべての欠陥が検出されます。ビームにまた調節可能な点サイズがあり、異なったイメージ投射の条件のための単位の柔軟性を与えます。このマシンには、サブミクロンレベルまでの欠陥を検出できる高解像度のイメージングオプティクスが装備されています。この光学系は、広域スキャンとライン空中イメージングの両方のために設計されています。この機能により、あらゆるサイズまたは構造のマスクを迅速かつ正確に検査できます。AIMS 193には、露出設定の高速範囲があり、迅速な検査サイクルが可能です。これにより、大量のマスク生産ラインに最適です。最後に、このツールには最先端の欠陥検出アルゴリズムが装備されており、最も微小な欠陥を識別することができます。このアルゴリズムにより、エンジニアはマスク製造工程の欠陥をこれまで以上に迅速かつ正確に特定することができます。要するに、AIMS193は最も要求の厳しいアプリケーションのために設計された最先端のマスクおよびウェーハ検査資産です。高解像度光学系と強力な欠陥検出アルゴリズムを備えており、サブミクロンレベルまで欠陥を識別することができます。高速露出設定により、大量のマスク生産ラインに最適で、エンジニアは最高品質のフォトマスク生産を保証するために必要な精度と柔軟性を提供します。
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