中古 AUROS TECHNOLOGY API-2500 #9205487 を販売中

AUROS TECHNOLOGY API-2500は、半導体製造のための高精度、高精度の測定を提供するために設計された主要なマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、シリコンウェーハの欠陥、表面の欠陥、フォトマスクのバリエーションを識別および分離するために、高度な独自の画像処理および分析技術を使用しています。API-2500は0。1ミクロンの精度で検査し、迅速かつ確実に迅速かつ効率的に配信することにより、コストを削減し、ウェーハの歩留まりを改善するのに役立ちます。このユニットは、ウェーハ検査用に最大2つの視野をキャプチャするために、複数の角度とセットアップから画像をキャプチャすることができます。それは欠陥検出のための単一のウェーハ、両面または多層ウェーハをスキャンできます。AUROS TECHNOLOGY API-2500機械はまたクロム、ブロック、クロムおよび水晶基質のクロムからなされるフォトマスクを点検します。API-2500は、検査されたサーフェスの正確な3次元メッシュを生成し、その後の分析のための欠陥を識別してマークするために使用することができます。これは、比類のない精度で表面欠陥と埋め込み層（サブサーフェス）の両方の欠陥を検出することができます。AUROS TECHNOLOGY API-2500は、電子ビームおよび光学イメージング、レーザー干渉計、散乱計、白色光干渉計、X線イメージング、走査トンネル電子顕微鏡（STM）、原子力顕微鏡（AFM）などのさまざまな技術で検査します。フォトマスクは、ピクセル単位の分光光度計によっても検査され、正確な拡散、前方、および全反射画像を記録します。API-2500には高度な画像解析機能があり、知覚的および定量的な欠陥測定を行うことができます。AUROS TECHNOLOGY API-2500は、卓越した精度で、高い精度で徹底した結果をお届けします。3ゾーン機能を備えており、プロセス、非プロセス、およびPCB関連の3つのカテゴリのいずれかにそれぞれの欠陥を割り当てることにより、ウェーハ歩留まり解析支援を強化できます。3ゾーン機能は、AUROSが提供するウェハマップを参照することで、多くの欠陥の根本原因を特定するのにも役立ちます。API-2500には、ウェーハの自動取り扱い、変位ステージ、高度なフェイルセーフブレーキツール、PCベースのウェーハハンドラ制御も内蔵されています。これは、ウェーハ検査中に簡単で信頼性の高いウェーハローディングとアンロードを提供するように設計されています。また、顕微鏡ベースの自動アライナーを備えており、検査のためにウェハを正確に整列させるのに役立ちます。AUROS TECHNOLOGY API-2500の強力なハードウェアに加えて、この資産は強力な統合ソフトウェアプラットフォームも提供します。ソフトウェアプラットフォームは、ウェーハとフォトマスクの両方の欠陥を自動的に識別および分類することにより、検査時間を短縮するのに役立ちます。このソフトウェアは、カスタムスクリプト用のさまざまなプログラミング言語と、上級ユーザー向けの組み込みスクリプト言語をサポートしています。その特徴と高度な検査技術により、API-2500は半導体業界にとって非常に貴重なツールであり、信頼性と正確な検査と結果を提供します。このモデルは、品質管理を最適化し、コストを削減し、ウェーハの歩留まりを改善するために設計されています。