中古 ASM TLB 139 #9299469 を販売中

ASM TLB 139は、強力で汎用性の高いマスクおよびウェーハ検査装置です。半導体製造工程フローにおける欠陥の特性評価のための包括的なソリューションです。このシステムは、ウェーハ表面の異常をすばやく特定し、長距離の顕微鏡設計を使用して検出された欠陥の深さを測定することができます。また、IC製造に使用するマスクの厚さをウェハレベルで測定することができます。最大2000xの高倍率で、TLB 139はマスクやウェーハ上の小さな特徴を高い精度で検出することができます。このユニットには、マスクカメラとウエハカメラの2つのイメージングカメラが装備されています。マスクカメラはマスクの高解像度イメージング用に設計されており、ウェハカメラはウェハ表面の欠陥の微細な画像を大きな視野で捉えています。このマシンは、光学パターン認識アルゴリズムを内蔵した正確な欠陥解析を提供します。背景基板と実際の特徴を区別することで、潜在的な欠陥と誤検出を区別することができます。ASM TLB 139は、偏光、反射光、透過光などのさまざまな表示モードを提供します。これらの様々なモードを通して、ユーザーはマスク材料を観察し、マスクを通して基盤となるウェーハ表面を見ることができます。ツールの表示モードを使用して、明るい基板上の見づらい特徴を検出することもできます。マクロフォーカスやマイクロフォーカスには自動フォーカス調整を使用でき、手動モーターによるxyスキャンを使用して顕微鏡アセットをさらに小さなステップで正確に移動させ、より詳細な検査を行うことができます。このモデルにより、収集されたデータをインテリジェントかつ自動的に管理することができ、迅速かつ簡単な分析と結果の共有が可能になります。収集されたすべてのデータは、共有ネットワークドライブに保存され、さらなるレビューや高度な診断を行うことができます。TLB 139マスクおよびウェハ検査装置は、将来の再利用または異なる設定で繰り返すためのマクロ機能のロードと保存も可能です。この特徴は異なったタイプの生産ラインのために適したシステムを作ります。