中古 ASM ISIBE 139H #9396132 を販売中

ASM ISIBE 139Hは、半導体製造プロセスで使用される高性能マスクおよびウェーハ検査装置です。11ミクロンまでの欠陥を検出できる高度なイメージングおよび検査機能を備えているため、マスクパターンやMEMS構造などの複雑なウエハ上の小さな特徴を検査するのに最適です。ISIBE 139Hは高い動作速度を持ち、高いスループットでウェーハを処理することができます。このシステムは、高度なレーザーイメージングと検査技術を使用して、デバイスの非常に正確で正確な画像を提供します。効率的な画像処理アルゴリズムにより、最も重要な機能だけをキャプチャして分析することができます。また、高度な欠陥検出スキームを備えており、誤った位置合わせ、欠落、および薄型化されたパターンを検出します。このユニットは欠陥を検出するのが最も困難な場合でも検出できるため、原子力顕微鏡（AFM）や電子ビームリソグラフィ（EBL）などの用途に適しています。ASM ISIBE 139Hはまた、高精度のフォーカス制御マシンを備えており、高解像度の画像を提供するのに役立ちます。このツールの10 μ m分解能イメージングは、他のシステムよりも大きな検査領域を生成し、より短い時間でより多くの欠陥を検出することができます。この資産には、自動欠陥解析および分類機能も装備されており、欠陥識別に手動で介入する必要のある他の検査システムよりも優れています。ISIBE 139Hは、簡単な操作と最小限のトレーニングのために設計された直感的なユーザーインターフェイスを備えています。高度なキャリブレーションモデルにより、ウェーハとマスクパターンの簡単で正確かつ一貫した位置決めが可能です。また、オートフォーカス機能を備えているため、光学フォーカスを素早く正確に調整し、より良い結果を得ることができます。ASM ISIBE 139Hは半導体業界で広く使用されており、信頼性の高い欠陥検出および欠陥識別機能を提供します。高性能、高精度、直感的なユーザーインターフェースにより、マスクやウェーハの検査に最適です。その高度なイメージング、欠陥検出、および校正機能により、正確で信頼性の高い結果が得られ、あらゆる半導体製造プロセスに不可欠なツールとなります。