中古 ASM IBE 139 #9266246 を販売中

ASM IBE 139は、半導体製造で使用されるレチクルおよびウェーハの検査用に設計されたマスクおよびウェーハ検査装置です。従来のEUV（極端な紫外線）マスクとウェーハ画像の両方で粒子レベルの欠陥や不均一性の問題を検出するために設計された、敏感で高速な画像スキャンシステムを使用しています。このユニットは、プロジェクションレンズマシンを収容する検査光学系と検査ソフトウェアの2つのコンポーネントで構成されています。投影レンズツールは、DUVレンズ、スペーサーレンズ、イメージングカメラで構成されています。DUVレンズを使用して、マスクまたはウエハー上のパターンの均一で未解像の画像を作成します。スペーサーレンズは、スキャン資産の視野に画像を拡大して調整することができます。画像カメラは、画像をキャプチャし、粒子サイズの欠陥を検出することができます。検査ソフトウェアは、複数のアルゴリズムモジュールで構成されており、それぞれがさまざまな種類の欠陥および不均一性の問題を検出するように設計されています。校正精度の違い、線幅、欠陥検出などがあります。ソフトウェアは自動化されており、複数のマスクレベルの欠陥を検出する機能を備えています。また、小規模な粒子レベルの欠陥を検出できるパターン認識技術を利用しています。このソフトウェアはユーザーフレンドリーに設計されており、レポート機能とデータエクスポート機能が含まれています。ASM IBE139は高度な検査モデルです。マスクおよびウエハーの幅広い用途における粒子レベルの欠陥を検出するように設計されています。高速イメージングスキャン機能と自動検出アルゴリズムにより、プロセスの効率と品質管理を最適化する高度なソリューションを提供します。IBE 139は、半導体製造に不可欠なツールを提供する経済的なソリューションです。