中古 AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 5 #9064274 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 5は、半導体製造において最高レベルの精度と性能を確保するために設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。AMAT UVision 5は、厳しい仕様に設計されており、半導体メーカーの特定のニーズに合わせてカスタマイズされています。このシステムはウェーハ表面全体をカバーし、新世代の高度な光学、統合された画像キャプチャユニット、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを備えています。アプライドマテリアルズUVision 5は、ウェーハとマスクの両方を垂直移動なしでスキャンするための電動スキャンステージを備えています。ウェーハは、アークパターン、円パターン、またはリニアスキャン方向でスキャンして、ウェーハの全面をカバーすることができます。スキャナは、マスクやウェーハのエッジやコーナーを正確にチェックすると同時に、再現性の高い測定を提供することができます。UVision 5で利用される高度な光学系は、非常に詳細なイメージング機能を提供します。顕微鏡の最大解像度は2nmです。光学モジュールには、最適な性能と画像処理機能を提供するための個別の照明チャネルが含まれています。高精細画像キャプチャも可能で、ウェーハやマスクの詳細な目視検査が可能です。AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 5の統合イメージキャプチャマシンは、カメラ、光源、制御ユニットで構成されています。カメラは、高精細で画像をキャプチャすることができ、高感度を可能にする洗練された誘電体の多層干渉フィルタツールの余分な広い焦点面アレイが含まれています。光源はまた制御可能で、適用必要性に従って調節することができます。AMAT UVision 5のグラフィカルユーザーインターフェイスは直感的で使いやすいです。これは、資産の操作を簡素化し、検査のためにウェーハまたはマスクを配置する際のユーザーの推測を減らすように設計されています。ソフトウェアはまた、欠陥の位置を分析し、欠陥を識別する際にユーザーを支援するプリセット画像と空間解析ツールのライブラリが含まれています。最後にAPPLIED MATERIALS UVision 5は、半導体製造シーンにおいて比類のない精度と性能を提供するために設計された専用ウェーハおよびマスク検査モデルです。先進的な光学機器、統合された画像キャプチャ装置、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスにより、ユーザーはウェーハやマスクを簡単に検査および分析することができ、半導体業界で必要とされる厳しい仕様を確実に満たすことができます。