中古 AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 4 #9293623 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALTS UVision 4マスクおよびウェーハ検査装置は、欠陥の識別と特性評価のための業界をリードする包括的なソリューションを提供します。先進の高出力・紫外（UV）レーザー検出技術を駆使し、フォトマスクやウェーハの高速検査を可能にします。AMAT UVision 4は、5 μ mまでの欠陥を検出および特性評価する機能とクラスタ欠陥を検出する機能により、最も包括的で正確な欠陥識別を可能にします。アプライドマテリアルズUVision 4は、最も効率的で信頼性の高いウェーハおよびフォトマスク検査を提供するために開発されました。高解像度のレーザースリットスキャンと視野（FOV）を備えたこのユニットは、5 μ mレベル以下の欠陥を検出することが最も困難な欠陥を迅速かつ正確に検査することができます。さらに、UVision 4の高度なレーザーラスター処理により、比類のない感度と均一なカバレッジを一定の画像強化で実現します。AMAT/APPLIED MATERIALTS UVision 4は、優れた欠陥特性評価機能も提供します。レーザー固有の検出アルゴリズムと強力なデジタルイメージ処理を組み合わせることで、ウェハとフォトマスクの2次元欠陥と3次元欠陥の両方を正確に特徴付けることができます。欠陥の特徴タイプ、印刷密度、および表面トポグラフィーを区別する機能により、このツールは比類のない特性評価精度を提供します。欠陥の特性評価に加えて、AMAT UVision 4は資産のデータを管理および提示するために設計された強力なソフトウェアスイートを提供します。Auto Defect Reconciliation、 Defect Clustering、 Defect Type Returns、 Auto Adaptive Statistics、 Bulk Map Segmentationなどの高度なソフトウェア機能により、検査結果を迅速に分析し、品質問題の潜在的な原因を特定できます。APPLIED MATERIALTS UVision 4 Mask and Wafer Inspectionモデルは、5 μ m以下の欠陥を識別および特性評価する業界をリードするソリューションです。UVision 4は、高解像度レーザー検出と強力なデジタルイメージ処理を利用して、ウェーハとフォトマスクの2次元欠陥と3次元欠陥の両方を正確に検出し、特徴付けることができます。欠陥タイプ、印刷密度、および表面の地形を認識する能力により、ユーザーは最高品質の製品が製造されていることを確認できます。この装置は強力なイメージングソフトウェアによってさらにサポートされており、検査結果を迅速に分析し、品質問題の原因を特定するのに役立つように設計されています。