中古 AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 4 #293665708 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 4マスクおよびウェーハ検査装置は、さまざまな半導体および集積回路（IC）製造プロセス向けに設計された最先端のイメージングシステムです。このユニットは、ブライトフィールドとダークフィールドの検査と最先端のアライメント解析アルゴリズムを組み合わせて、半導体とウェーハの製造における最高レベルの歩留まりを保証します。このマシンは、非破壊欠陥の検査を可能にし、表面地形の詳細な画像と、あらゆるマスクまたはウェーハ内の潜在的な故障箇所を提供します。このツールには高度な画像処理アルゴリズムが含まれており、そうでなければ見逃される可能性のある最小の欠陥サイトを識別することができます。このアセットは、1つのコンポーネント内の2つの異なる深さのファインパターと欠陥を検査および区別することができ、マスクまたはウェハの各層の高品質な検査を可能にします。このモデルは、高解像度のデジタルイメージングと直感的なユーザーインターフェイスを備えており、ユーザーはさまざまなタイプのマスクおよびウェーハ検査を迅速かつ簡単に実行できます。サポートされている機能は次のとおりです;型抜きの欠陥の点検、前スキャンされた点検、完全なウエハーマスクの点検、点の欠陥の点検およびコピーマスクの点検。さらに、ピッチ、面積、ライン/スペース、オーバーラップ、形状、配置などの複数のダイジオメトリパラメータを評価できます。さらに、AMAT UVision 4にはマスクアライメント装置が搭載されており、最大2つのリファレンスマスクと1つのターゲットマスクの同時マッチングが可能です。これにより、検査プロセスの精度と再現性が保証されます。このシステムは、任意のWebブラウザ、WindowsまたはUNIXオペレーティングユニットから操作でき、自動化された操作をサポートするために、MIS （Automated Mask Inspection Machine）コマンドの広範なライブラリが提供されています。さらに、このデバイスは特許取得済みの自動補正アルゴリズムを備えており、ツールの手動調整の必要性を減らすことで検査時間を最小限に抑えます。APPLIED MATERIALTS UVision 4マスクおよびウェーハ検査アセットの優れた機能により、高度な半導体および集積回路製造プロセスに不可欠なツールとなります。このモデルにより、欠陥の迅速かつ正確な識別が可能になり、製造環境での歩留まりとスループットが向上します。