中古 AMAT / APPLIED MATERIALS UVision 200 #9158469 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 200マスクおよびウェーハ検査装置は、ウェーハおよびレチクルの全分野イメージングおよび分析を提供するフルフィールド検査システムです。この最先端のユニットは、利用可能なすべてのリソグラフィ技術を含む、現在の半導体製造プロセス手順の欠陥を迅速かつ正確に検出および分析するように設計されています。FITSなどの高度なデジタルイメージング技術を搭載し、高解像度の複合イメージング、信頼性の高い高速イメージングオプティクス、および統合ウエハおよびレチクルアライメント機能を可能にします。AMAT UVision 200ツールは、無制限のフィールド機能を備えた高スループットイメージングおよび解析アセットを提供します。高解像度イメージングと統合された超高レベル形状解析アルゴリズムを組み合わせることで、最も小さな欠陥をすばやく正確に見つけ、識別することができます。APPLIED MATERIALS UVision 200は、高解像度イメージング、最先端の解析アルゴリズム、高速検査速度により、半導体製造業者が欠陥を迅速に特定し、高価な修理や製造遅延を回避することができます。正確で信頼性の高い結果を得るために、UVision 200装置には、ウエハとレチクルの全領域で一貫した画質を保証する一連の特殊なアライメント機能が装備されています。このシステムには自動光学アライメントが装備されており、光学アライメントパラメータを調整し、検査対象とイメージングツールの正確なアライメントを保証します。さらに、アライメントコントロールに手動でアクセスできるため、精度がさらに向上します。さらに、高性能な画像解析機能により、欠陥データを迅速に分析できるように設計されています。このツールは、包括的な画像情報を提供し、最短の欠陥を検出するユニークなイメージングツールを活用しています。この資産には、手動で介入することなく欠陥データを迅速に分析するための高度な自動分析機能も装備されています。AMAT/APPLIED MATERIALS UVision 200は、現在および将来のプロセスの精密で信頼性の高い検査を行うように設計されているため、半導体プロセスに最適なイメージングおよび分析モデルです。その高度なイメージング、分析、アライメント機能により、半導体従業員はコストを削減し、不良製造を最小限に抑えることができます。