中古 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9160447 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2は、欠陥解析、歩留まりおよびプロセス最適化、フォトマスクの修理、およびマスクの登録およびアライメントの分野に関する包括的な国際標準テストを実行するために設計された最先端のマスクおよびウェハ検査システムです。この製品は、マスクの特徴を迅速かつ正確に評価するために使用される強力な高周波電子ビーム（E-Beam）ツールを備えています。また、電子ビームによって生成された画像のパターンや欠陥を自動的に検出するために使用される自動フィーチャー認識（AFR）モジュールも備えています。AMAT SemVision G2は、高解像度ウェーハとマスクの2次元イメージングを提供し、イメージングとE-Beamの直接統合を提供します。この高性能システムは、複数レベルの垂直および横方向のスキャンコントロールを可能にし、重要なマスクパラメータを監視するための微調整アルゴリズムを提供します。Allen-BradleyのLogix 5000プラットフォームと統合されており、プロセス指向プログラミングをサポートし、本番環境内で容易に統合できます。応用材料SemVision G2は、複数のマスク最適化ツールを備えています。マスクの登録および整列に使用される自動整列および比較；そして表面および構造特徴を改善するために特に設計されているさまざまなリードフレームの強化のアルゴリズム。この製品には、パフォーマンスと精度を向上させる高度なE-Beamコンポジットソフトウェアも含まれています。SemVision G2は、ステージモーションの最適化に役立つ独自のレイヤーアウェアキャリブレーション機能を提供します。また、自動ローカルピクセル調整も提供しており、手動調整の必要性を低減し、エラーの可能性を排除します。インテリジェントなエラー識別を可能にし、最新の欠陥分類をサポートします。AMAT/APPLIED MATERIALTS SemVision G2は効率的なウェーハ検査を提供し、包括的な計測機能を提供します。これは、化学機械平坦化（CMP）欠陥、絶縁粒子、サブミクロン粒子、化学機械研磨（CMP）プロセスの均一性など、さまざまなプロセス欠陥と互換性があります。この製品は、Siを含む誘電体、およびTaN、 Ta2O5、およびHfO2層を扱うことができます。AMAT SemVision G2は、あらゆるハイエンドのウェーハ検査アプリケーションのニーズに応える幅広いツールを提供します。この製品は、高速、正確、高性能の結果を必要とするあらゆる環境に最適です。MISRA-C++コーディング規格を包括的にサポートし、業界の安全基準に準拠するように構成することができます。