中古 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plus #9280524 を販売中

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 Plusマスク&ウエハ検査装置は、半導体およびディスプレイデバイスメーカー向けに設計された高度な自動光検査（AOI）システムです。このユニットは、デュアルレーザウェーハスキャナ、高度な画像キャプチャおよびパターン認識アルゴリズム、およびデジタル機能測定機能で構成されています。AMAT SemVision G2 Plusマシンは、自動フォトマスク欠陥検出、マスクレイアウト検証、ウェハレベルの欠陥レビューに優れた性能を提供し、精度を向上させて高速なプロセス速度を実現します。G2 Plusのマスク&ウエハ検査ツールは、2つの高出力レーザー光源を備えており、明るく均一で均等に分散した光源を作成します。このデュアルレーザー技術は、シングルレーザーシステムと比較してパフォーマンスを向上させ、誤った欠陥検出が少ないマスク表面の迅速かつ正確な画像処理を保証します。高度なイメージング技術は、ピクセルレベルの解像度で完全かつ部分的なパターン情報をキャプチャし、優れたエッジ検出と輝度バランスを提供し、マスク領域全体の欠陥感度を向上させます。APPLIED MATERIALTS SemVision G2 Plusアセットには、回折光学素子（DOE）やCoplanar Difference Imaging （CDI）による欠陥検出など、幅広い高度なパターン認識技術も搭載されています。検査テンプレートを内蔵したライブラリは、同様のマスクやウェーハをテストするための標準モデルをユーザーに提供するため、検査結果は一貫して再現可能です。また、LEDや連続波レーザーなどのカスタマイズされた光学系を追加し、より高い電力レベルで欠陥解析を改善することも可能です。SemVision G2 Plusは、フリップチップ、BGA、ウェハレベルのチップスケール、ファンイン/ファンアウトパッケージなど、さまざまなデバイスアーキテクチャの検査性を向上させます。そのユーザーフレンドリーなインターフェイスは、画面上のディスプレイを介してリアルタイムの欠陥検出と分析で、直感的な操作を可能にします。最適化されたアルゴリズムと高度な測定機能を備えたG2 Plusシステムは、生産性の向上と最大歩留まりの品質保証の向上に役立ちます。