中古 AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision CX #9185367 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision CX
ID: 9185367
ウェーハサイズ: 8"-12"
ヴィンテージ: 2004
Review station, 8"-12" E-Beam Resolution: 4 nm at 1kV EDX Automatic defect review and classification capability Multi perspective imaging SEM Autofocus SONY 990 CCD Optical video image: 2.5x, 20x and 100x Vacuum chamber (3) Wafer tilt positions (0, 15 and 45 degrees) SECS II Compatible (2) BROOKS AUTOMATION Fixed load ports SGI (Main computer): IRIX Silicon graphics EDX: Sun SPARC 5 Operating system: Solaris MEC, WHC / Image computer: Windows NT NFS Supports Missing part: Hard disk drive 2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision CXは、最も要求の厳しい半導体環境のために設計されたマスク&ウェーハ検査装置です。マスク&ウエハハンドリング、キャリブレーション、アライメントシステムなど、業界最高水準のスループットを誇ります。このシステムは拡張性とアップグレード性があり、ウェーハおよびマスクの検査に関する最先端の要件を満たすことができます。CXの設計にはAdaptiViewソフトウェアプラットフォームが組み込まれており、リソグラフィー線のエッジ粗さ(LER)や臨界寸法(CD)測定などのマスクパターンとそれに関連する構造が正確に識別および測定されるようにしています。さらに、ソフトウェアプラットフォームは、ウェーハおよびレチクル測定の最高精度と、多層パターンによる金型表面の成長と変化を監視する機能を提供します。本技術は、テレセントリック、非球面から液浸、3Dまでの複数のレンズオプションと、独自の「ライトボックス」イルミネーションを採用し、高解像度・多色画像を実現しています。SOI、シリコン、ガラスなど幅広いウエハ基板に対応しています。検査機能に関しては、Yield Management Software (YMS)などのさまざまな機能を備えており、欠陥を直感的に分析し、より迅速な歩留まり改善を実現できます。ユーザーは、プロセス許容差を定義し、ルールをカスタマイズして偽の呼び出しを減らし、それらを均一かつ効率的に分類することもできます。さらに、CXは、統計分析機能を備えた直感的なマスク検査レポート生成マシンを提供し、フォルトの分離と分析を高速化します。さらに、このツールは、包括的なマニュアル(MPD)および自動(CSPD)粒子検出および評価機能を提供します。ウエハーおよびレチクル検査のための最新のビームスキャン技術と、フォルト検出および修正のための最新のアルゴリズムを採用しています。最後に、AMAT SemVision CX Assetは、半導体アプリケーションにおける最も要求の厳しい要件を満たすように設計された先進的なモデルです。自動化されたマスク&ウエハハンドリング、キャリブレーション、アライメントシステム、優れたイメージング技術、最新のビームスキャニング技術を提供しています。さらに、高度なソフトウェアプラットフォームを提供し、効率的な欠陥検出、解析、フォルト分離を実現します。
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