中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Semvision ADC Server #9147377 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Semvision ADC Serverは、マスク設計者やリトグラファーがデータ抽出、レイアウト比較、画像処理を迅速かつ正確に分析できるように設計された自動マスクおよびウェハ検査装置です。これは、マスクとウェーハの迅速な製造のための効率的なソリューションです。このシステムは、包括的なアプリケーションを備えた生産プロセス制御に焦点を当てています。ユーザーフレンドリー、自動解析、内部および外部仕様の再現可能なデータを提供します。さまざまなマスクおよびウェーハデータ分析タスク用の標準およびカスタム設計のソフトウェアツールが付属しています。これらのツールには、データ抽出、レイアウト比較、画像処理、欠陥と脆弱性検出、さらには特殊な作業のためのカスタムスクリプティング機能が含まれます。このユニットは、データ表示用の直感的なビジュアライザを幅広く搭載しています。強力な描画機能により、ユーザーはプロセス生成データを瞬時に視覚化し、改善の分野についての洞察を得ることができます。このペーパートゥファブデータ抽出は、設計データから単一の信号を取り、それを本格的な画像に変換します。これは、ウェーハ特性のデバッグとレビューに特に役立ちます。この機械の自動解析機能により、ユーザーは詳細な検査を実行し、個々のウェーハの欠陥を見つけることができます。これにより、全体の生産歩留まりがさらに向上します。自動解析では、処理されたデータからウェーハパターンを識別および分離するための一連のグラフィカルトレース丸めアルゴリズムも提供されます。洗練されたアジャイルなパターン認識機能により、面倒な手動タスクを実行する時間を節約できます。自動化された画像処理機能により、ユーザーは画像を表示、編集、および分析することができます。ノイズリダクション、幾何学的変換、エッジリンクなどのツールが含まれており、画像の品質を向上させます。AMAT Semvision ADC Serverの欠陥検出機能は、ウェーハやマスクの問題を迅速に検出します。プロセス制御システムとの統合により、異常や欠陥領域を迅速に特定できます。このプロセス制御解析の統合により、ウェーハイメージやマスク上の疑わしい領域において、手動で欠陥を探すことなく、トレーサビリティと欠陥を識別する能力が向上します。全体として、APPLIED MATERIALS Semvision ADC Serverは、効率的で自動化されたマスクおよびウェーハ検査ツールであり、生産歩留まりを加速します。直感的なデータビジュアライザ、強力な描画と編集機能、自動化されたプロセス制御、効率的なトレーサビリティを備えています。この資産は、マスクおよびウェーハデザイナーおよびリトグラファーに、高品質の検査および検出活動を確実にするための直感的で汎用性の高いプラットフォームを提供します。