中古 AMAT / APPLIED MATERIALS / ORBOT WF 736 DUO #293730901 を販売中

ID: 293730901
Patterned wafer inspection system.
AMAT/APPLIED MATERIALS/ORBOT WF 736 DUOは、高度な半導体生産ラインの効率的な自動化と高精度の測定を可能にするように設計された高精度マスク&ウェーハ検査装置です。システムは2つの異なるモジュールで構成されています。WF 736デュアルサイト検査ユニットとWF 736比較スキャナー。この装置は、光学マスク、DRAM、フォトマスク、およびシリコンウェハースライス、SOGチップ、BGA基板などのマイクロ電子部品など、最高レベルの半導体およびマイクロエレクトロニクス機器の検査を目的としています。WF 736 Dual Site Inspection Toolには、マスクおよびウェハ検査用の2つの高速光学顕微鏡が装備されており、上部と下部にそれぞれ1つずつ設置されています。どちらの光学顕微鏡も、最高の光学および制御性能を備えており、高速イメージングとデータ精度の向上を実現しています。このアセットは、最高解像度の画像を生成し、毎秒30フレームの最大画像リフレッシュ速度で正確な測定を可能にすることができます。WF 736 Comparison Scannerは、マスクとウェーハ検査イメージの間で高速なデータ比較と検証を提供するように設計されています。パワフルなネオンレーザーを搭載し、手作業でのアライメントを必要とせず、高精度・バルク比較が可能です。スキャナは、2つの異なるウェーハまたはマスクを簡単に比較できます。画像を読み取り、作成し、単一のスキャンでマスクとウェーハを比較することができます。AMAT WF 736 DUOの両モジュールは、超高精度デバイスの検査とテストのための高度な機能を提供します。デュアルサイト検査モデルは、重要な膜厚およびパターンエッジフィーチャー全体にわたって、高精度、低ノイズのイメージングおよびフラクショナルピクセル測定精度を保証します。これは、理想的なイメージング条件を確立するための複数の測定モードを提供しています。比較スキャナーは、高速イメージングとデュアルレーザー動作を備え、マスクとウェーハの比較でデータ精度を向上させます。その高度な機能は、最も困難なクリーンルーム環境でも優れたパフォーマンスを可能にします。ORBOT WF 736 DUOは、最高品質の半導体検査とテストのための柔軟で信頼性の高い機器です。高速イメージング、高解像度イメージング、および優れた精度データ比較により、半導体業界の最高の要求を満たすための完璧なソリューションです。2つのモジュールを1つのシステムに組み合わせることで、比類のない性能と精度を実現し、優れた半導体デバイスを容易かつ確実に製造することができます。
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