中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 4T #9276171 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4Tマスクおよびウェーハ検査装置は、フォトマスクおよびウェーハ基板の検査および測定用に特別に設計された汎用性の高い自動システムです。このユニットは、欠陥レビュー、自動パターン認識と分類、および自動検出された欠陥の補正を含むプロセスステップの組み合わせとして機能します。直感的なユーザーインターフェイスにより、1。0 µmから50 µmまでのフォトマスク基板を効率的に検査できます。AMAT Complus 4Tマスクおよびウェーハ検査機は、線幅、コーナー、ギャップ、線幅変化などの幅広い欠陥を検出および分離することができます。さらに、このツールは、調整可能な強度設定、座標、顕微鏡の設定、スキャン周波数とスキャン速度を使用して、包括的なプロセス制御を提供します。これらの設定により、アセットは孤立した欠陥と、ラインエンド非対称性、過剰エッチング、空白領域などの複雑な欠陥の両方を検出および分析することができます。APPLIED MATERIALS Complus 4T Mask and Wafer Inspectionモデルは、ウェーハとフォトマスク基板を正確に配置し、スキャンの精度を最大限に高める自動ステージを採用しています。このステージは、10x-60xの倍率範囲と統合された対物レンズに結合されており、さまざまな機能サイズの検査が可能です。この装置は、スキャン設定の精度を維持するためのキャリブレーションシステムを備えています。これにより、ユニットは繰り返しサイクルで0。05 µm以内の精度を維持することができます。その生産能力に加えて、Complus 4Tマスクとウェーハ検査機は、さまざまな欠陥レビューのオプションをサポートしています。これには、フィルム構造および欠陥トポロジデータを検査するためのさまざまな画像キャプチャモードが含まれます。このツールはまた、事前設定された閾値に基づいて欠陥を迅速に分析してソートすることができる洗練された自動欠陥レビュー資産を備えています。追加の欠陥分類およびデータ分析を提供するために、オプションの欠陥分析装置も利用できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 4Tマスクおよびウェーハ検査モデルは、低TCOでマスクおよびウェーハ検査に費用対効果の高いソリューションを提供します。この装置は、再現性、信頼性、ユーザーフレンドリーな操作で、高レベルの検査精度を提供することができます。これらの組み合わせにより、ユーザーは1つの統合システムでマスクとウェーハの両方の検査を行うことができます。