中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Complus 3 #9353217 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Complus 3は、半導体製造のために設計されたマスク&ウエハ検査装置です。チップ製造前のICマスクやウェーハの検査・測定を総合的に行うシステムです。このユニットは、ウェーハ検査ステーション、アライメントマシン、サブシステム、およびデータ処理、分析、レポート生成用のホストコンピュータで構成されています。このツールは、マスクおよびウェーハ表面の高分解能イメージング用の高分解能スキャン電子顕微鏡（SEM）を備えています。ICマスクとウェーハの2D画像と3D画像の両方を作成するために使用されます。このアセットは、マスクおよびウェーハ表面の物理的欠陥と非視覚特性の両方を検査するための自動ツールと手動ツールを組み合わせて使用します。ウェーハ検査ステーションは、各ウェーハの表面をスキャンし、高解像度の3D画像をキャプチャします。これにより、マスク欠陥、不整列、およびその他の欠陥などの表面欠陥を正確に評価できます。アライメントモデルには、自動モータ駆動ステージがあり、正確な検査のためにウェハをサンプルビューポートに整列させます。このサブシステムは、高解像度の画像比較、高度なシェーディング補正、非表示欠陥の検査アルゴリズムなど、さまざまな機能を備えています。高度な画像解析アルゴリズムを使用して、機器は表面欠陥を検出、報告、分類することができます。それは欠陥の自動分類そして重症度の評価、また欠陥のサイズ、形および性質の手動査定のために使用することができます。さらに、このシステムは高度なレポート機能を提供し、結果を安全なデータベース内に保存および分析することができます。このユニットには、ステージの自動移動、光強度の制御、自動検索モード、画像やテスト結果の外部へのエクスポートなど、さまざまな自動化された機能があります。これにより、マスクやウエハ基板を検査する際のスループットが向上し、信頼性が向上します。全体として、AMAT Complus 3は、半導体の製造に使用する強力で包括的なマスク&ウェハ検査機です。高解像度イメージング機能、自動化されたツール、高度なデータ解析機能により、ICマスクやウェーハの品質をチップ化する前に監視するための効果的なツールとなります。