中古 AMAT / APPLIED MATERIALS 0020-20112 #9361625 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS 0020-20112は、半導体製造の用途向けに設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。このシステムは、高度な光学技術、画像処理、オートメーション技術を統合して、フォトリソグラフィープロセスと欠陥レビューの両方のためのウェーハ比較分析に完全なマスクを提供します。このユニットは、クラスで最も生産性と信頼性の高いマスクおよびウェーハ検査システムの1つであると考えられています。高解像度のモノクロCCDカメラを内蔵しており、最大2Xの倍率を実現し、トップダウンとサイドビューの両方の画像を提供することができます。カメラには、2つの画像の正確なアライメントを可能にするいくつかの機能が含まれており、1 μ mの小さな欠陥を見つけることができます。ウェーハステージは、幅広い動作範囲（最大30mmのX-Y移動範囲）とサブミクロンレベルの精度を備えており、スキャン前にウェーハを正確に自動集中させることができます。さらに、このツールは、画像のコントラストとノイズ耐性を向上させるために、強化された光の遮蔽と最適化された照明技術を備えています。このアセットには、CCD画像を解析するための複数の自動画像処理機能も含まれています。欠陥検出、分類、色分析、計測などの機能を可能にするために、適応しきい値、エッジ検出、局所コントラスト強化、フーリエ変換、粒度解析、セグメンテーションなどのツールが提供されています。これらのツールは、検査プロセスの精度と速度を向上させるためにさらに最適化されています。さらに、このモデルにはグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が組み込まれており、ユーザーに直感的な作業環境を提供します。GUIはシンプルなメニューとツールバーで構成されており、ユーザーはセットアップ、画像処理、分析手順を制御できます。さらに、GUIはヒストグラムや3Dグラフなどの可視化ツールも提供しており、ユーザーは画像データをよりよく分析して解釈することができます。全体として、AMAT 0020-20112は、半導体ウェーハ製造プロセスにおいて比類のない画像解析機能と自動化を提供する高度で機能豊富なマスクおよびウェーハ検査装置です。それは困難な検査プロセスを簡素化し、加速し、製造プロセスに不可欠な洞察と改善を提供します。